Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Electrical Activation of Interstitial Ni in Cu‐Doped Si.

Szczegóły

Tytuł:: Electrical Activation of Interstitial Ni in Cu‐Doped Si.
Autorzy:: Yarykin, Nikolai (AUTHOR)
Weber, Jörg (AUTHOR)
Źródło:: Physica Status Solidi. A: Applications & Materials Science. Dec2021, Vol. 218 Issue 23, p1-4. 4p.
: Czasopismo naukowe

Full Text Finder

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

Electrical Activation of Interstitial Ni in Cu‐Doped Si.