Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

The structure of Si–SiO2 layers with high excess Si content prepared by magnetron sputtering

Szczegóły

Tytuł:: The structure of Si–SiO2 layers with high excess Si content prepared by magnetron sputtering
Autorzy:: Baran, N.
Bulakh, B.
Venger, Ye
Korsunska, N.
Khomenkova, L.
Stara, T.
Goldstein, Y.
Savir, E.
Jedrzejewski, J.
Źródło:: Thin Solid Films. Jul2009, Vol. 517 Issue 18, p5468-5473. 6p.
: Czasopismo naukowe

Full Text Finder

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

The structure of Si–SiO2 layers with high excess Si content prepared by magnetron sputtering