- Tytuł:
- Characterization of a Metastable Defect Introduced In Epitaxially Grown Boron Doped Si by 5.4 Mev α-Particles.
- Autorzy:
- Źródło:
- MRS Online Proceedings Library; Dec1998, Vol. 510 Issue 1, p449-450, 2p
- Konferencja
Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.