Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Przeglądasz jako GOŚĆ
Tytuł pozycji:

Electron beam lithography simulation based on a single convolution approach: application for sub-45nm nodes.

Tytuł :
Electron beam lithography simulation based on a single convolution approach: application for sub-45nm nodes.
Autorzy :
Le denmat, J. C.
Manakli, S.
Icard, B.
Soonekindt, C.
Minghetti, B.
Le borgne, O.
Pain, L.
Pokaż więcej
Źródło :
Proceedings of SPIE; Nov2007, Issue 1, p653319-653319-9, 9p
Konferencja

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies