Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Przeglądasz jako GOŚĆ
Tytuł pozycji:

Model-based mask verification on critical 45nm logic masks.

Tytuł :
Model-based mask verification on critical 45nm logic masks.
Autorzy :
Sundermann, F.
Foussadier, F.
Takigawa, T.
Wiley, J.
Vacca, A.
Depre, L.
Chen, G.
Bai, S.
Wang, J.-S.
Howell, R.
Arnoux, V.
Hayano, K.
Narukawa, S.
Kawashima, S.
Mohri, H.
Hayashi, N.
Miyashita, H.
Trouiller, Y.
Robert, F.
Vautrin, F.
Pokaż więcej
Źródło :
Proceedings of SPIE; Nov2008 Part 2, Issue 1, p70280U-70280U-12, 12p
Konferencja

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies