Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Przeglądasz jako GOŚĆ
Tytuł pozycji:

Influence of multi-pulse action on the evolution of silicon microrelief under femtosecond laser irradiation

Tytuł :
Influence of multi-pulse action on the evolution of silicon microrelief under femtosecond laser irradiation
Autorzy :
Guk, I. V.
Kuz’min, E. V.
Shandybina, G. D.
Yakovlev, E. B.
Dyukin, R. V.
Kulagin, V. S.
Pokaż więcej
Źródło :
Journal of Optical Technology; July 2017, Vol. 84 Issue: 7 p462-466, 5p
Periodyk
The results of numerical modeling of the process of multi-pulse femtosecond laser photoexcitation and heating of monocrystalline silicon are presented. It is shown that starting from a certain level of irradiance at pulse repetition rates of 10–1000 Hz, the structural changes in the surface that occur between pulses influence the spatiotemporal distribution of the electron plasma in the near-surface layer of the semiconductor at the time of irradiation with a subsequent pulse and thus accumulate, forming a stable surface microstructure in the irradiated region. A mechanism is proposed for the formation of a two-dimensional periodic microrelief on a silicon surface, which is based on a change in the type of a surface excited by electromagnetic waves with an increasing number of irradiating femtosecond pulses.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies