Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Leveraging Atomistic Modeling during Precursor Design for Cobalt Film Deposition

Szczegóły

Tytuł :: Leveraging Atomistic Modeling during Precursor Design for Cobalt Film Deposition
Autorzy :: Adamczyk, Andrew J.; Pokaż więcej
Źródło :: In 13th International Symposium on Process Systems Engineering (PSE 2018), Computer Aided Chemical Engineering 2018 44:157-162
: Książka

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

Prolib Integro - strona głównaUniwersytet Ekonomiczny we Wrocławiu

Leveraging Atomistic Modeling during Precursor Design for Cobalt Film Deposition