Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Effect of substrate type on the electrical and structural properties of TiO2 thin films deposited by reactive DC sputtering

Tytuł:
Effect of substrate type on the electrical and structural properties of TiO2 thin films deposited by reactive DC sputtering
Autorzy:
Cheng, Xuemei
Gotoh, Kazuhiro
Nakagawa, Yoshihiko
Usami, Noritaka
Źródło:
In Journal of Crystal Growth 1 June 2018 491:120-125
Czasopismo naukowe

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies