Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Przeglądasz jako GOŚĆ
Tytuł pozycji:

Chemical vapor deposition of hafnium dioxide thin films from cyclopentadienyl hafnium compounds

Tytuł :
Chemical vapor deposition of hafnium dioxide thin films from cyclopentadienyl hafnium compounds
Autorzy :
Carta, Giovanni
Pokaż więcej
Źródło :
In Thin Solid Films 2008 516(21):7354-7360
Czasopismo naukowe

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies