- Tytuł :
- Chemical vapor deposition of hafnium dioxide thin films from cyclopentadienyl hafnium compounds
- Autorzy :
- Źródło :
- In Thin Solid Films 2008 516(21):7354-7360
-
Czasopismo naukowe
Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.