Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Impact of Asymmetric Dual-k Spacer in the Underlap Regions of Sub 20 nm NMOSFET with Gate Stack

Szczegóły

Tytuł:: Impact of Asymmetric Dual-k Spacer in the Underlap Regions of Sub 20 nm NMOSFET with Gate Stack
Autorzy:: Chakraborty, Shramana
Dasgupta, Arpan
Das, Rahul
Kundu, Atanu
Sarkar, Chandan K.
Źródło:: In Superlattices and Microstructures October 2016 98:448-457
: Czasopismo naukowe

Full Text Finder

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

Impact of Asymmetric Dual-k Spacer in the Underlap Regions of Sub 20 nm NMOSFET with Gate Stack