Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

On the diffusion of oxygen in a silicon crystal

Szczegóły

Tytuł:: On the diffusion of oxygen in a silicon crystal
Autorzy:: Snyder, Lawrence C.
Corbett, James W.
Deák, Peter
Wu, Rongzhi
Źródło:: New Developments in Semiconductor Physics : Proceedings of the Third Summer School Held at Szeged, Hungary August 31 – September 4, 1987. 301:147-156
: Książka elektroniczna

Full Text Finder

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

On the diffusion of oxygen in a silicon crystal