Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Influence of Working Pressure on the Al2O3 Film Properties in Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition

Szczegóły

Tytuł:: Influence of Working Pressure on the Al2O3 Film Properties in Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition
Autorzy:: Hur, M.
Kim, D. J.
Kang, W. S.
Lee, J. O.
Song, Y.-H.
Kim, S. J.
Kim, I. D.
Źródło:: Plasma Chemistry and Plasma Processing. March 2016 36(2):679-691
: Czasopismo naukowe

Full Text Finder

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

Influence of Working Pressure on the Al2O3 Film Properties in Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition