Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Przeglądasz jako GOŚĆ
Tytuł pozycji:

The ALD Films of Al2O3, SiNx, and SiON as Passivation Coatings in AlGaN/GaN HEMT

Tytuł :
The ALD Films of Al2O3, SiNx, and SiON as Passivation Coatings in AlGaN/GaN HEMT
Autorzy :
Enisherlova, K. L.
Temper, E. M.
Kolkovsky, Yu. V.
Medvedev, B. K.
Kapilin, S. A.
Pokaż więcej
Źródło :
Russian Microelectronics. 49(8):603-611
Czasopismo naukowe

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies