Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Effect of Low-Energy Ion-Plasma Treatment on Residual Stresses in Thin Chromium Films

Szczegóły
Pełny tekst

Tytuł:: Effect of Low-Energy Ion-Plasma Treatment on Residual Stresses in Thin Chromium Films
Autorzy:: Babushkin, A. S.Aff1, cor1
Uvarov, I. V.Aff1, cor2
Amirov, I. I.Aff1, cor3
Źródło:: Technical Physics. 63(12):1800-1807
: Czasopismo naukowe

Pełny tekst

Zaloguj się, aby uzyskać dostęp do pełnego tekstu.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

Effect of Low-Energy Ion-Plasma Treatment on Residual Stresses in Thin Chromium Films