Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Przeglądasz jako GOŚĆ
Tytuł pozycji:

Displacement Talbot lithography for nano-engineering of III-nitride materials

Tytuł :
Displacement Talbot lithography for nano-engineering of III-nitride materials
Autorzy :
Coulon, Pierre-Marie
Damilano, Benjamin
Alloing, Blandine
Chausse, Pierre
Walde, Sebastian
Enslin, Johannes
Armstrong, Robert
Vézian, Stéphane
Hagedorn, Sylvia
Wernicke, Tim
Massies, Jean
Zúñiga‐Pérez, Jesus
Weyers, Markus
Kneissl, MichaelAff3, Aff4
Shields, Philip A.
Pokaż więcej
Źródło :
Microsystems & Nanoengineering. 5(1)
Czasopismo naukowe

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies