Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Synergistic effect of CO2 and PH3 on the properties of n-type nanocrystalline silicon oxide prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Szczegóły

Tytuł:: Synergistic effect of CO2 and PH3 on the properties of n-type nanocrystalline silicon oxide prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition
Autorzy:: You, JiachuanAff1, Aff2
Zhao, LeiAff1, Aff2, Aff3
Diao, Hongwei
Wang, WenjingAff1, Aff2, Aff3
Źródło:: Journal of Materials Science: Materials in Electronics. 32(3):2814-2821
: Czasopismo naukowe

Full Text Finder

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

Synergistic effect of CO2 and PH3 on the properties of n-type nanocrystalline silicon oxide prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition