- Tytuł:
- Effect of RF magnetron sputtering parameters on the optimization of the discharge capacity of ternary lithium oxide thin films
- Autorzy:
- Źródło:
- Journal of Materials Science: Materials in Electronics. 32(13):17462-17472
Czasopismo naukowe
Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.