- Tytuł:
- UV-Nanoimprint and Deep Reactive Ion Etching of High Efficiency Silicon Metalenses: High Throughput at Low Cost with Excellent Resolution and Repeatability
- Autorzy:
- Temat:
-
metasurfaces
photonic sensors
nanopatterning
Chemistry
QD1-999 - Źródło:
- Nanomaterials, Vol 13, Iss 3, p 436 (2023)
- Opis pliku:
- electronic resource
- Relacje:
- https://www.mdpi.com/2079-4991/13/3/436; https://doaj.org/toc/2079-4991
- Dostęp URL:
- https://doaj.org/article/c5d8a3e0d15446a89f76f8d089478fba Link otwiera się w nowym oknie
Czasopismo naukowe