- Tytuł:
- The use of one-component plasma in the icp-rie etching process of periodic structures for applications in photodetector arrays
- Autorzy:
- Temat:
-
icp-rie
dry etching
type ii inas/gasb superlattice
bcl3
Technology - Źródło:
- Metrology and Measurement Systems, Vol vol. 30, Iss No 4, Pp 809-819 (2023)
- Opis pliku:
- electronic resource
- Relacje:
- https://journals.pan.pl/Content/130315/art13_int.pdf; https://doaj.org/toc/2300-1941
- Dostęp URL:
- https://doaj.org/article/01a1cefabe2d49a08c932b9a5dede0cd  Link otwiera się w nowym oknie
Czasopismo naukowe