- Tytuł:
- Depth profile investigation of the incorporated iron atoms during Kr+ ion beam sputtering on Si (001)
- Autorzy:
- Źródło:
- In Thin Solid Films 1 January 2013 527:349-353
Czasopismo naukowe
Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.