- Tytuł:
- Reactions between SiCl4 and H2O on rutile TiO2 surfaces in atomic layer deposition of SiO2 by first-principles calculations
- Autorzy:
- Źródło:
- In Surfaces and Interfaces February 2023 36
Czasopismo naukowe
Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.