- Tytuł:
- UHV-CVD growth and annealing of thin fully relaxed Ge films on (0 0 1)Si
- Autorzy:
- Źródło:
- In Optical Materials 2005 27(5):822-826
Czasopismo naukowe
Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.