- Tytuł:
- Pulsed Aerosol-Assisted Low-Pressure Plasma for Thin-Film Deposition
- Autorzy:
- Źródło:
- Plasma Chemistry and Plasma Processing. :1-14
Czasopismo naukowe
Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.