Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Przeglądasz jako GOŚĆ

Wyszukujesz frazę ""Constancias, C."" wg kryterium: Wszystkie pola


Tytuł :
Downsizing and Silicon Integration of Photoacoustic Gas Cells
Autorzy :
Glière, A.
Barritault, P.
Berthelot, A.
Constancias, C.
Coutard, J.-G.
Desloges, B.
Duraffourg, L.
Fedeli, J.-M.
Garcia, M.
Lartigue, O.
Lhermet, H.
Marchant, A.
Rouxel, J.Aff1, Aff2
Skubich, J.Aff1, Aff3
Teulle, A.
Verdot, T.
Nicoletti, S.
Pokaż więcej
Źródło :
International Journal of Thermophysics: Journal of Thermophysical Properties and Thermophysics and Its Applications. 41(2)
Czasopismo naukowe
Tytuł :
Critical Components for XUV Probing of Laser Driven Shocks
Autorzy :
Stehlé, C.
Lefèvre, R.
Chaulagain, U.
Champion, N.
Barroso, P.
Reix, F.
Jagourel, P.
Larour, J.
Meltchakov, E.
Mercier, R.
Delmotte, F.
Kozlova, M.
Nejdl, J.
Krus, M.
Dostal, J.
Prokupek, J.
Constancias, C.
Suzuki-Vidal, F.
Acef, O.
Pokaż więcej
Źródło :
X-Ray Lasers 2012 : Proceedings of the 13th International Conference on X-Ray Lasers, 11–15 June 2012, Paris, France. 147:239-242
Książka elektroniczna
Tytuł :
Characterization of Zn X-Ray Laser at PALS Centre, Its Applications in Dense Plasma Probing and Astrophysics
Autorzy :
Kozlova, M.
Nejdl, J.
Krus, M.
Prokupek, J.
Dostal, J.
Rus, B.
Klisnick, A.
Meng, L.
Tissandier, F.
Stehlé, C.
Lefevre, R.
Chaulagain, U.
Champion, N.
Barroso, P.
Reix, F.
Jagourel, P.
Larour, J.
Delmotte, F.
Constancias, C.
Suzuki-Vidal, F.
Acef, O.
Pokaż więcej
Źródło :
X-Ray Lasers 2012 : Proceedings of the 13th International Conference on X-Ray Lasers, 11–15 June 2012, Paris, France. 147:151-159
Książka elektroniczna
Tytuł :
'SWIFTS Waveguide Micro-Spectrometer Integrated on Top of a 1D-NbN SNSPD Array,' Applied Superconductivity
Autorzy :
Cavalier, P.
Constancias, C.
Feautrier, P.
Maingault, L.
Morand, A.
Pokaż więcej
Temat :
[SPI.OPTI]Engineering Sciences [physics]/Optics / Photonic
ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Źródło :
IEEE Transactions on Applied Superconductivity
IEEE Transactions on Applied Superconductivity, Institute of Electrical and Electronics Engineers, 2010, pp.1-1. ⟨10.1109/TASC.2010.2086039⟩
Dostępność :
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::839312addb33fe25b2e64080dce7c262
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00603154
Tytuł :
Diffraction effects in an EUV interferometer
Autorzy :
Saib, M.
Besacier, M.
Michallon, P.
Constancias, C.
Pokaż więcej
Temat :
ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Źródło :
7th Fraunhofer IISB Lithography simulation workshop
7th Fraunhofer IISB Lithography simulation workshop, 2009, Hersbruck, Germany
Dostępność :
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::e06b287e339506953f95b66a0c342ecd
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00461062
Tytuł :
New technique for EUV mask defect mitigation: 'Reversal Technology'
Autorzy :
Constancias, C.
De Nadaï, C.
Tiron, R.
Robic, J.Y
Beatrice, B.
Richard, Murielle
Besacier, M.
Pokaż więcej
Temat :
ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Źródło :
EUV symposium
EUV symposium, 2005, san diego, United States
Dostępność :
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::73579b503a95bfec536e36f15452ad35
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00387455
Tytuł :
Fabrication of buckling free ultrathin silicon membranes by direct bonding with thermal difference.
Autorzy :
Delachat F; †Université de Montréal, C.P. 6128, Montréal, Québec H3C 3J7, Canada.; ‡CEA-LETI, 17 rue des Martyrs, Grenoble F-38054, France.
Constancias C; ‡CEA-LETI, 17 rue des Martyrs, Grenoble F-38054, France.
Fournel F; ‡CEA-LETI, 17 rue des Martyrs, Grenoble F-38054, France.
Morales C; ‡CEA-LETI, 17 rue des Martyrs, Grenoble F-38054, France.
Le Drogoff B; §INRS-EMT, 1650 Boulevard Lionel-Boulet, Varennes, Québec J3X 1S2, Canada.
Chaker M; §INRS-EMT, 1650 Boulevard Lionel-Boulet, Varennes, Québec J3X 1S2, Canada.
Margot J; †Université de Montréal, C.P. 6128, Montréal, Québec H3C 3J7, Canada.
Pokaż więcej
Źródło :
ACS nano [ACS Nano] 2015; Vol. 9 (4), pp. 3654-63. Date of Electronic Publication: 2015 Mar 25.
Typ publikacji :
Journal Article; Research Support, Non-U.S. Gov't
MeSH Terms :
Mechanical Phenomena*
Membranes, Artificial*
Temperature*
Nanotechnology/*methods
Silicon/*chemistry
Electric Impedance ; Hydrophobic and Hydrophilic Interactions ; Optical Phenomena
Czasopismo naukowe
Tytuł :
Observation Of The Emission From A Microtip Cathode Array With An "electrostatic-lens Microscope" : Statistical Aspects.
Autorzy :
Constancias, C.
Baptist, R.
Pokaż więcej
Źródło :
10th International Conference on Vacuum Microelectronics; 1997, p215-219, 5p
Konferencja
Tytuł :
Emission observation of a microtip cathode array with an electrostatic-lens projector: Statistical approach.
Autorzy :
Constancias, C.
Baptist, R.
Pokaż więcej
Źródło :
Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1998, Vol. 16 Issue 2, p841-850, 10p
Czasopismo naukowe
Tytuł :
Microtips and resistive sheet: A theoretical description of the emissive properties of this system.
Autorzy :
Baptist, R.
Bachelet, F.
Constancias, C.
Pokaż więcej
Źródło :
Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1997, Vol. 15 Issue 2, p385-390, 6p
Czasopismo naukowe
Tytuł :
Probing multilayer stack reflectors by low coherence interferometry in extreme ultraviolet.
Autorzy :
de Rossi S; Laboratoire Charles Fabry de I'Institut d'Optique, CNRS, Université Paris Sud, Campus Polytechnique, Palaiseau, France. />Joyeux D
Chavel P
de Oliveira N
Richard M
Constancias C
Robic JY
Pokaż więcej
Źródło :
Applied optics [Appl Opt] 2008 Apr 20; Vol. 47 (12), pp. 2109-15.
Typ publikacji :
Journal Article
Czasopismo naukowe
Tytuł :
Nanolithography : The Art of Fabricating Nanoelectronic and Nanophotonic Devices and Systems
Autorzy :
M Feldman
Pokaż więcej
Temat :
Nanotechnology
Nanolithography
Nanophotonics
Nanostructured materials--Design and construction
Typ zasobu :
eBook.
Kategorie :
TECHNOLOGY & ENGINEERING / Electronics / General
TECHNOLOGY & ENGINEERING / Electronics / Semiconductors
TECHNOLOGY & ENGINEERING / Materials Science / General
Książka elektroniczna
Tytuł :
Influence of hybrid organic-inorganic sol-gel matrices on the photophysics of amino-functionalized UV-sensitizers.
Autorzy :
Oubaha, M.
Copperwhite, R.
Boothman, C.
Ovsianikov, A.
Kiyan, R.
Purlys, V.
O'Sullivan, M.
McDonagh, C.
Chichkov, B.
Gadonas, R.
MacCraith, B. D.
Pokaż więcej
Źródło :
Journal of Materials Science. Jan2011, Vol. 46 Issue 2, p400-408. 9p. 1 Black and White Photograph, 3 Diagrams, 2 Charts, 8 Graphs.
Czasopismo naukowe
Tytuł :
Algorithms and Architectures for Parallel Processing : 12th International Conference, ICA3PP 2012, Fukuoka, Japan, September 4-7, 2012, Proceedings, Part I
Autorzy :
Yang Xiang
Ivan Stojmenovic
Bernady O. Apduhan
Guojun Wang
Koji Nakano
Albert Y. Zomaya
Pokaż więcej
Typ zasobu :
eBook.
Kategorie :
COMPUTERS / Programming / Algorithms
BUSINESS & ECONOMICS / Information Management
COMPUTERS / Artificial Intelligence / General
COMPUTERS / Information Technology
COMPUTERS / Software Development & Engineering / General
COMPUTERS / Networking / Hardware
Książka elektroniczna
Tytuł :
Rosina – Rosetta Orbiter Spectrometer for Ion and Neutral Analysis.
Autorzy :
Balsiger, H.
Altwegg, K.
Bochsler, P.
Eberhardt, P.
Fischer, J.
Graf, S.
Jäckel, A.
Kopp, E.
Langer, U.
Mildner, M.
Müller, J.
Riesen, T.
Rubin, M.
Scherer, S.
Wurz, P.
Wüthrich, S.
Arijs, E.
Delanoye, S.
Keyser, J.
Neefs, E.
Pokaż więcej
Źródło :
Space Science Reviews. Oct2006, Vol. 128 Issue 1-4, p745-801. 57p. 27 Diagrams, 4 Charts, 5 Graphs.
Czasopismo naukowe
Tytuł :
Carbonaceous contamination growth induced by resist outgassing under e-beam exposure.
Autorzy :
Pourteau, Marie-Line
Mebiene-Engohang, Armel-Petit
Marusic, Jean-Christophe
Pain, Laurent
David, Sylvain
Smits, Marc
Wieland, Marco
Pokaż więcej
Temat :
ELECTRON beam lithography
INDUSTRIAL applications of electron beams
OUTGASSING
SILICON wafers
ENERGY dissipation
Źródło :
Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Nanotechnology & Microelectronics; Nov/Dec2014, Vol. 32 Issue 6, p1-6, 6p
Czasopismo naukowe
Tytuł :
Three-Dimensional Electron Energy Deposition Modeling of Cathodoluminescence Emission near Threading Dislocations in GaN and Electron-Beam Lithography Exposure Parameters for a PMMA Resist.
Autorzy :
Demers, Hendrix
Poirier-Demers, Nicolas
Phillips, Matthew R.
de Jonge, Niels
Drouin, Dominique
Pokaż więcej
Temat :
CATHODOLUMINESCENCE
GALLIUM nitride
ELECTRON beam lithography
SIMULATION methods & models
MONTE Carlo method
ELECTRON energy states
POLYMETHYLMETHACRYLATE
Źródło :
Microscopy & Microanalysis; Dec2012, Vol. 18 Issue 6, p1220-1228, 9p
Czasopismo naukowe
Tytuł :
Sculpting Nanometric Patterns: The Top-down Approach.
Autorzy :
Pignataro, Bruno
Pokaż więcej
Źródło :
Ideas in Chemistry & Molecular Sciences: Advances in Nanotechnology, Materials & Devices; 2010, p379-400, 22p
Książka
Tytuł :
Nanoscale Engineering for the Mechanical Integrity of Li-Ion Electrode Materials.
Autorzy :
Eftekhari, Ali
Pokaż więcej
Źródło :
Nanostructured Materials in Electrochemistry; 2008, p319-347, 29p
Książka
Tytuł :
Top-Down Approaches to the Fabrication of Nanopatterned Electrodes.
Autorzy :
Eftekhari, Ali
Pokaż więcej
Źródło :
Nanostructured Materials in Electrochemistry; 2008, p187-210, 24p
Książka
Tytuł :
2011 Index IEEE Transactions on Applied Superconductivity Vol. 21.
Źródło :
IEEE Transactions on Applied Superconductivity; Dec2011, Vol. 21 Issue 6, p3655-3792, 138p
Czasopismo naukowe
Tytuł :
Next-generation lithography for 22 and 16 nm technology nodes and beyond.
Autorzy :
Wu, Banqiu
Pokaż więcej
Źródło :
SCIENCE CHINA Information Sciences; May2011, Vol. 54 Issue 5, p959-979, 21p
Czasopismo naukowe
Tytuł :
List of authors.
Źródło :
10th International Conference on Vacuum Microelectronics; 1997, p779-787, 9p
Konferencja
Tytuł :
List of authors.
Źródło :
9th International Vacuum Microelectronics Conference; 1996, p673-681, 9p
Konferencja

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies