- Tytuł :
- The impact of H2 and N2 on the material properties and secondary electron yield of sputtered amorphous carbon films for anti-multipacting applications
- Autorzy :
- Źródło :
- In Applied Surface Science 15 March 2021 542
-
Czasopismo naukowe
Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.