- Tytuł:
- Highly oriented crystalline si on epitaxial Gd2O3/Si(111) substrate using low-cost Radio Frequency sputtering for Silicon on Insulator application
- Autorzy:
- Źródło:
- In Thin Solid Films 30 March 2024 793
Czasopismo naukowe
Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.