Autor: "Icard, B." - OpacWWW

Skocz do pozycji: 1 1.

Tytuł :: Resist outgassing assessment for multi electron beams lithography
Autorzy :: Mebiene-Engohang, A.-P.; Pokaż więcej
Źródło :: In Microelectronic Engineering 1 August 2014 125:58-61
: Czasopismo naukowe

Szczegóły

Skocz do pozycji: 2 2.

Tytuł :: Holed MEM Resonators for High Accuracy Frequency Trimming
Autorzy :: Civet, Y.; Pokaż więcej
Źródło :: In Procedia Engineering 2011 25:531-534
: Czasopismo naukowe

Szczegóły

Skocz do pozycji: 3 3.

Tytuł :: 32 nm node BEOL integration with an extreme low- k porous SiOCH dielectric k = 2.3
Autorzy :: Hamioud, K.; Pokaż więcej
Źródło :: In Microelectronic Engineering 2010 87(3):316-320
: Czasopismo naukowe

Szczegóły

Skocz do pozycji: 4 4.

Tytuł :: Transitioning of direct e-beam write technology from research and development into production flow
Autorzy :: Pain, L.; Pokaż więcej
Źródło :: In Microelectronic Engineering 2006 83(4):749-753
: Czasopismo naukowe

Szczegóły

Skocz do pozycji: 5 5.

Tytuł :: Metrology and Linewidth roughness issues during complex metal/high-k gate stack patterning for sub-20nm technological nodes
Autorzy :: Pargon, E.
Fouchier, M.
Brihoum, M.
Azarnouche, L.
Menguelti, K.
Jussot, J.
Ros, O.
Icard, B.
Gouraud, P.; Pokaż więcej
Temat :: ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Źródło :: 60th International AVS Symposium & Topical Conferences
60th International AVS Symposium & Topical Conferences, Oct 2013, Long Beach, United States
Dostępność :: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::2426e37296bf00a0edfdfd2965eab6c3
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00951022

Szczegóły

Skocz do pozycji: 6 6.

Tytuł :: Holed MEMS resonators with High aspect ratio and frequency compensated
Autorzy :: Civet, Y.
Casset, F.
Carpentier, J.F.
Icard, B.
Bustos, J.
Leverd, F.
Mercier, D.
Basrour, Skandar; Pokaż więcej
Temat :: MEMS
resonator
PACS 85.42
[SPI.NANO]Engineering Sciences [physics]/Micro and nanotechnologies/Microelectronics
Źródło :: Proc of 22nd Micromechanics and Micro systems Europe Workshop (MME'11)
22nd Micromechanics and Micro systems Europe Workshop (MME'11)
22nd Micromechanics and Micro systems Europe Workshop (MME'11), Jun 2011, Tonsberg, Norway. pp.158-161
Dostępność :: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::05e06cbf1da70dcb92e7539adc83f654
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00643898

Szczegóły

Skocz do pozycji: 7 7.

Tytuł :: Impact of direct CMP on porous ULK properties and interconnect propagation performance on a wide frequency bandwidth
Autorzy :: Gallitre, M.
Gall, S.
Farcy, A.
Blampey, B.
Icard, B.
Jousseaume, V.
Guillermet, M.
Brun, P.
Grosgeaorges, P.
Sbrugnera, V.
Bustos, J.
Bermond, C.
Lacrevaz, T.
Fléchet, B.
Rivoire, M.
Ancey, P.; Pokaż więcej
Temat :: [SPI.ELEC]Engineering Sciences [physics]/Electromagnetism
ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Źródło :: 25th Advanced Metallization Conference, AMC 2008
25th Advanced Metallization Conference, AMC 2008, Sep 2008,-, France
Dostępność :: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::ccb37872eb847a192a64905dd2b57d2b
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00397928

Szczegóły

Skocz do pozycji: 8 8.

Informacja :: Dostęp do tej pozycji wymaga zalogowania się.
: Czasopismo naukowe

Szczegóły

Skocz do pozycji: 9 9.

Informacja :: Dostęp do tej pozycji wymaga zalogowania się.
: Czasopismo naukowe

Szczegóły

Skocz do pozycji: 10 10.

Informacja :: Dostęp do tej pozycji wymaga zalogowania się.
: Czasopismo naukowe

Szczegóły

Skocz do pozycji: 11 11.

Informacja :: Dostęp do tej pozycji wymaga zalogowania się.
: Czasopismo naukowe

Szczegóły

Skocz do pozycji: 12 12.

Informacja :: Dostęp do tej pozycji wymaga zalogowania się.
: Czasopismo naukowe

Szczegóły

Skocz do pozycji: 13 13.

Informacja :: Dostęp do tej pozycji wymaga zalogowania się.
: Czasopismo naukowe

Szczegóły

Skocz do pozycji: 14 14.

Tytuł :: Holed MEM resonators with high aspect ratio, for high accuracy frequency trimming.
Autorzy :: Civet, Y.
Basrour, S.
Casset, F.
Icard, B.
Mercier, D.
Carpentier, J.-F.
Bustos, J.
Leverd, F.; Pokaż więcej
Źródło :: 2011 Proceedings of the European Solid-State Device Research Conference (ESSDERC); 2011, p123-126, 4p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 15 15.

Tytuł :: New writing strategy in electron beam direct write lithography to improve critical dense lines patterning for sub-45nm nodes.
Autorzy :: Martin, L.
Manakli, S.
Icard, B.
Pradelles, J.
Orobtchouk, R.
Poncet, A.
Pain, L.; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2009 Part 3, Issue 1, p74700R-74700R-12, 12p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 16 16.

Tytuł :: Development of multiple pass exposure in electron beam direct write lithography for sub-32nm nodes.
Autorzy :: Martin, L.
Manakli, S.
Icard, B.
Pradelles, J.
Orobtchouk, R.
Poncet, A.
Pain, L.; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2009 Part 3, Issue 1, p74881C-74881C-12, 12p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 17 17.

Tytuł :: Development of resist process for 5-KV multi-beam technology.
Autorzy :: Icard, B.
Rio, D.
Veltman, P.
Kampherbeek, B.
Constancias, C.
Pain, L.; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2009 Part 2, Issue 1, p72710R-72710R-12, 12p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 18 18.

Tytuł :: New alignment marks for improved measurement maturity.
Autorzy :: Weidenmueller, U.
Alves, H.
Schnabel, B.
Icard, B.
Pain, L.
Le Denmat, J.-C.
Manakli, S.
Pradelles, J.; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2008, Issue 1, p679211-679211-7, 7p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 19 19.

Tytuł :: MAGIC: a European program to push the insertion of maskless lithography.
Autorzy :: Pain, L.
Icard, B.
Tedesco, S.
Kampherbeek, B.
Gross, G.
Klein, C.
Loeschner, H.
Platzgummer, E.
Morgan, R.
Manakli, S.
Kretz, J.
Holhe, C.
Choi, K.-H.
Thrum, F.
Kassel, E.
Pilz, W.
Keil, K.
Butschke, J.
Irmscher, M.
Letzkus, F.; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2008, Issue 1, p69211S-69211S-12, 12p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 20 20.

Tytuł :: Electron beam lithography simulation based on a single convolution approach: application for sub-45nm nodes.
Autorzy :: Le denmat, J. C.
Manakli, S.
Icard, B.
Soonekindt, C.
Minghetti, B.
Le borgne, O.
Pain, L.; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2007, Issue 1, p653319-653319-9, 9p
: Konferencja

Szczegóły

Informacja

Prolib Integro - strona głównaUniwersytet Ekonomiczny we Wrocławiu

Wyszukujesz frazę ""Icard, B."" wg kryterium: Autor

Źródło danych

Ogranicz do:

Ogranicz do bazy

Typ dokumentu

Temat

Wydawca

Publikacja

Język