- Tytuł:
- Final polishing of Ga-polar GaN substrates using reactive ion etching
- Autorzy:
- Źródło:
- Journal of Electronic Materials. December 1999 28(12):1448-1451
Czasopismo naukowe
Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.