Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę ""Lang, Walter"" wg kryterium: Autor


Tytuł:
Influence of Voltage, Pulselength and Presence of a Reverse Polarized Pulse on an Argon–Gold Plasma during a High-Power Impulse Magnetron Sputtering Process.
Autorzy:
Guljakow, Jürgen
Lang, Walter
Pokaż więcej
Źródło:
Plasma; Dec2023, Vol. 6 Issue 4, p680-698, 19p
Czasopismo naukowe

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies