- Tytuł:
- Process variation dependence of total ionizing dose effects in bulk nFinFETs
- Autorzy:
- Źródło:
- In Microelectronics Reliability September 2018 88-90:946-951
Czasopismo naukowe
Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.