Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Ukraiński (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Uniwersytet Ekonomiczny we Wrocławiu Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaUniwersytet Ekonomiczny we Wrocławiu

Wyszukujesz frazę ""MAGNETRON sputtering"" wg kryterium: Temat

  Lista filtrów
Wyrównaj
Wyświetlanie 1-20 z 30635
Tytuł:
Statistical Design‐Guided Synthesis of Nanoarchitectonics of High‐Performance NiFeMoN Electrocatalyst through Facile One‐Step Magnetron Sputtering.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
Statistical Design‐Guided Synthesis of Nanoarchitectonics of High‐Performance NiFeMoN Electrocatalyst through Facile One‐Step Magnetron Sputtering.
Autorzy:
Attar, Farid (AUTHOR)
Sharma, Astha (AUTHOR)
Gupta, Bikesh (AUTHOR)
Karuturi, Siva (AUTHOR)
Źródło:
Advanced Science. 4/10/2024, Vol. 11 Issue 14, p1-11. 11p.
Czasopismo naukowe
Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknie Pełny tekstSzczegóły
Tytuł:
Compositional Optimization of Sputtered WO 3 /MoO 3 Films for High Coloration Efficiency.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
Compositional Optimization of Sputtered WO 3 /MoO 3 Films for High Coloration Efficiency.
Autorzy:
Lábadi, Zoltán (AUTHOR)
Takács, Dániel (AUTHOR)
Zolnai, Zsolt (AUTHOR)
Petrik, Péter (AUTHOR)
Fried, Miklós (AUTHOR)
Źródło:
Materials (1996-1944). Mar2024, Vol. 17 Issue 5, p1000. 13p.
Czasopismo naukowe
Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknie Pełny tekstSzczegóły
Tytuł:
Forming free bipolar resistive switching in SiOx-based flexible MIM devices.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
Forming free bipolar resistive switching in SiOx-based flexible MIM devices.
Autorzy:
Jana, Biswajit (AUTHOR)
Gaur, Pallavi (AUTHOR)
Roy Chaudhuri, Ayan (AUTHOR)
Źródło:
Bulletin of Materials Science. Mar2024, Vol. 47 Issue 1, p1-7. 7p.
Czasopismo naukowe
Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknie Pełny tekstSzczegóły
Tytuł:
Synthesis of WS 2 Ultrathin Films by Magnetron Sputtering Followed by Sulfurization in a Confined Space.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
Synthesis of WS 2 Ultrathin Films by Magnetron Sputtering Followed by Sulfurization in a Confined Space.
Autorzy:
Sava, Florinel (AUTHOR)
Simandan, Iosif-Daniel (AUTHOR)
Buruiana, Angel-Theodor (AUTHOR)
Bocirnea, Amelia Elena (AUTHOR)
El Khouja, Outman (AUTHOR)
Tite, Teddy (AUTHOR)
Zaki, Mohamed Yasssine (AUTHOR)
Mihai, Claudia (AUTHOR)
Velea, Alin (AUTHOR)
Źródło:
Surfaces (2571-9637). Mar2024, Vol. 7 Issue 1, p108-119. 12p.
Czasopismo naukowe
Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknie Pełny tekstSzczegóły
Tytuł:
Effects of O 2 /Ar Ratio on Preparation and Dielectric Properties of CaZrO 3 Films by Radio Frequency (RF) Magnetron Sputtering.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
Effects of O 2 /Ar Ratio on Preparation and Dielectric Properties of CaZrO 3 Films by Radio Frequency (RF) Magnetron Sputtering.
Autorzy:
Ding, Mingjian (AUTHOR)
Xie, Bing (AUTHOR)
Lv, Ming (AUTHOR)
Lu, Zhenya (AUTHOR)
Źródło:
Materials (1996-1944). Mar2024, Vol. 17 Issue 5, p1120. 13p.
Czasopismo naukowe
Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknie Pełny tekstSzczegóły
Tytuł:
MAGNETRON SPUTTERING SYNTHESIS OF ELECTROCATALYSTS.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
MAGNETRON SPUTTERING SYNTHESIS OF ELECTROCATALYSTS.
Autorzy:
Kozlova, M. V.
Fateev, V. N.
Alekseeva, O. K.
Ivanova, N. A.
Tishkin, V. V.
Aliyev, A. Sh.
Alternatywny tytuł:
ELEKTROKATALİZATORLARIN SİNTEZİ ÜÇÜN MAQNETRON SƏPİLMƏ.
МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ ДЛЯ СИНТЕЗА ЭЛЕКТРОКАТАЛИЗАТОРОВ.
Źródło:
Chemical Problems / Kimya Problemləri. 2024, Vol. 22 Issue 1, p7-19. 13p.
Czasopismo naukowe
Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknieSzczegóły
Tytuł:
A Comprehensive Investigation of the Mechanical and Tribological Properties of AZO Transparent Conducting Oxide Thin Films Deposited by Medium Frequency Magnetron Sputtering.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
A Comprehensive Investigation of the Mechanical and Tribological Properties of AZO Transparent Conducting Oxide Thin Films Deposited by Medium Frequency Magnetron Sputtering.
Autorzy:
Mazur, Michał (AUTHOR)
Kiliszkiewicz, Milena (AUTHOR)
Posadowski, Witold (AUTHOR)
Domaradzki, Jarosław (AUTHOR)
Małachowska, Aleksandra (AUTHOR)
Sokołowski, Paweł (AUTHOR)
Źródło:
Materials (1996-1944). Jan2024, Vol. 17 Issue 1, p81. 15p.
Czasopismo naukowe
Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknie Pełny tekstSzczegóły
Tytuł:
Magnetron Sputtered Lead Titanates Thin Films for Pyroelectric Applications: Part 1: Epitaxial Growth, Material Characterization.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
Magnetron Sputtered Lead Titanates Thin Films for Pyroelectric Applications: Part 1: Epitaxial Growth, Material Characterization.
Autorzy:
Fathipour, Morteza (AUTHOR)
Xu, Yanan (AUTHOR)
Rana, Mukti (AUTHOR)
Źródło:
Materials (1996-1944). Jan2024, Vol. 17 Issue 1, p221. 43p.
Czasopismo naukowe
Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknie Pełny tekstSzczegóły
Tytuł:
Optical and X-Ray Studies of Indium Oxide Films Deposited by DC Magnetron Sputtering.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
Optical and X-Ray Studies of Indium Oxide Films Deposited by DC Magnetron Sputtering.
Autorzy:
TIKHII, A. A.
SVIRIDOVA, E. A.
ZHIKHAREVA, Y. I.
ZHIKHAREV, I. V.
Źródło:
Acta Physica Polonica: A. Jan2024, Vol. 145 Issue 1, p67-70. 4p.
Czasopismo naukowe
Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknieSzczegóły
Tytuł:
XPS Investigation of the Oxidation States of the As-Deposited Ta Films Prepared by Magnetron Sputtering Technology.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
XPS Investigation of the Oxidation States of the As-Deposited Ta Films Prepared by Magnetron Sputtering Technology.
Autorzy:
Hu, Ming (AUTHOR)
Li, Zhaowang (AUTHOR)
Gao, Xiaoming (AUTHOR)
Jiang, Dong (AUTHOR)
Liu, Zhilu (AUTHOR)
Guo, Longbang (AUTHOR)
Zhao, Xu (AUTHOR)
He, Jun (AUTHOR)
Sun, Jiayi (AUTHOR)
Weng, Lijun (AUTHOR)
Wang, Desheng (AUTHOR)
Źródło:
Materials (1996-1944). Dec2023, Vol. 16 Issue 23, p7405. 10p.
Czasopismo naukowe
Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknie Pełny tekstSzczegóły
Tytuł:
The Deposition and Properties of Titanium Films Prepared by High Power Pulsed Magnetron Sputtering.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
The Deposition and Properties of Titanium Films Prepared by High Power Pulsed Magnetron Sputtering.
Autorzy:
Jiang, Quanxin (AUTHOR)
Ma, Donglin (AUTHOR)
Li, Yantao (AUTHOR)
Chen, Changzi (AUTHOR)
Źródło:
Materials (1996-1944). Dec2023, Vol. 16 Issue 23, p7294. 15p.
Czasopismo naukowe
Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknie Pełny tekstSzczegóły
Tytuł:
Evolution Mechanism of Sputtered Film Uniformity with the Erosion Groove Size: Integrated Simulation and Experiment.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
Evolution Mechanism of Sputtered Film Uniformity with the Erosion Groove Size: Integrated Simulation and Experiment.
Autorzy:
Zhu, Guo (AUTHOR)
Yang, Yutong (AUTHOR)
Xiao, Baijun (AUTHOR)
Gan, Zhiyin (AUTHOR)
Źródło:
Molecules. Nov2023, Vol. 28 Issue 22, p7660. 13p.
Czasopismo naukowe
Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknie Pełny tekstSzczegóły
Tytuł:
The influence of substrate temperature on the structure and optical properties of NiO thin films deposited using the magnetron sputtering in the layer-by-layer growth regime.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
The influence of substrate temperature on the structure and optical properties of NiO thin films deposited using the magnetron sputtering in the layer-by-layer growth regime.
Autorzy:
Ievtushenko, A. I.
Karpyna, V. A.
Bykov, O. I.
Dranchuk, M. V.
Kolomys, O. F.
Maziar, D. M.
Strelchuk, V. V.
Starik, S. P.
Baturin, V. A.
Karpenko, О. Y.
Lytvyn, O. S.
Alternatywny tytuł:
Вплив температури підкладки на структуру та оптичні властивості тонких плівок NiO, осаджених методом магнетронного розпилення в режимі пошарового росту.
Źródło:
Semiconductor Physics, Quantum Electronics & Optoelectronics. 2023, Vol. 26 Issue 4, p398-407. 10p.
Czasopismo naukowe
Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknieSzczegóły
Tytuł:
Preparation and Characterization of Stainless Steel-Molybdenum Composite Coatings and its Evaluation using Image Processing.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
Preparation and Characterization of Stainless Steel-Molybdenum Composite Coatings and its Evaluation using Image Processing.
Autorzy:
PRAVIN, M. C.
KARTHIKEYAN, S.
SATHYABAMA, S.
BALAJI, S.
Źródło:
Archives of Metallurgy & Materials. 2023, Vol. 68 Issue 4, p1333-1347. 15p.
Czasopismo naukowe
Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknieSzczegóły
Tytuł:
Co x CrFeNiTi High-Entropy Alloys Prepared via Mechanical Alloying and Spark Plasma Sintering for Magnetron Sputtering Coatings.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
Co x CrFeNiTi High-Entropy Alloys Prepared via Mechanical Alloying and Spark Plasma Sintering for Magnetron Sputtering Coatings.
Autorzy:
Manea, Ciprian Alexandru (AUTHOR)
Geambazu, Laura Elena (AUTHOR)
Tălpeanu, Dorinel (AUTHOR)
Marinescu, Virgil (AUTHOR)
Sbârcea, Gabriela Beatrice (AUTHOR)
Pătroi, Delia (AUTHOR)
Udrea, Radu Mihail (AUTHOR)
Lungu, Magdalena Valentina (AUTHOR)
Lucaci, Mariana (AUTHOR)
Źródło:
Materials (1996-1944). Oct2023, Vol. 16 Issue 19, p6386. 21p.
Czasopismo naukowe
Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknie Pełny tekstSzczegóły
Tytuł:
Wafer‐Level Manufacturing of MEMS H2 Sensing Chips Based on Pd Nanoparticles Modified SnO2 Film Patterns.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
Wafer‐Level Manufacturing of MEMS H2 Sensing Chips Based on Pd Nanoparticles Modified SnO2 Film Patterns.
Autorzy:
Zhang, Zheng (AUTHOR)
Luo, Liyang (AUTHOR)
Zhang, Yanlin (AUTHOR)
Lv, Guoliang (AUTHOR)
Luo, Yuanyuan (AUTHOR)
Duan, Guotao (AUTHOR)
Źródło:
Advanced Science. Sep2023, Vol. 10 Issue 26, p1-8. 8p.
Czasopismo naukowe
Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknie Pełny tekstSzczegóły
Tytuł:
Comparison of CrN Coatings Prepared Using High-Power Impulse Magnetron Sputtering and Direct Current Magnetron Sputtering.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
Comparison of CrN Coatings Prepared Using High-Power Impulse Magnetron Sputtering and Direct Current Magnetron Sputtering.
Autorzy:
Bai, Heda (AUTHOR)
Li, Jin (AUTHOR)
Gao, Jialai (AUTHOR)
Ni, Jinyang (AUTHOR)
Bai, Yaxiong (AUTHOR)
Jian, Jie (AUTHOR)
Zhao, Lin (AUTHOR)
Bai, Bowen (AUTHOR)
Cai, Zeyun (AUTHOR)
He, Jianchao (AUTHOR)
Chen, Hongsheng (AUTHOR)
Leng, Xuesong (AUTHOR)
Liu, Xiangli (AUTHOR)
Źródło:
Materials (1996-1944). Sep2023, Vol. 16 Issue 18, p6303. 21p.
Czasopismo naukowe
Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknie Pełny tekstSzczegóły
Tytuł:
Effect of Target Power on Microstructure, Tribological Performance and Biocompatibility of Magnetron Sputtered Amorphous Carbon Coatings.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
Effect of Target Power on Microstructure, Tribological Performance and Biocompatibility of Magnetron Sputtered Amorphous Carbon Coatings.
Autorzy:
Dhandapani, Vishnu Shankar (AUTHOR)
Subbiah, Ramesh (AUTHOR)
Thangavel, Elangovan (AUTHOR)
Kim, Chang-Lae (AUTHOR)
Kang, Kyoung-Mo (AUTHOR)
Veeraraghavan, Veeravazhuthi (AUTHOR)
Park, Kwideok (AUTHOR)
Kim, Dae-Eun (AUTHOR)
Park, Dongkyou (AUTHOR)
Kim, Byungki (AUTHOR)
Źródło:
Materials (1996-1944). Sep2023, Vol. 16 Issue 17, p5788. 15p.
Czasopismo naukowe
Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknie Pełny tekstSzczegóły
Tytuł:
The Role of Hydrogen Incorporation into Amorphous Carbon Films in the Change of the Secondary Electron Yield.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
The Role of Hydrogen Incorporation into Amorphous Carbon Films in the Change of the Secondary Electron Yield.
Autorzy:
Bundaleski, Nenad (AUTHOR)
Adame, Carolina F. (AUTHOR)
Alves, Eduardo (AUTHOR)
Barradas, Nuno P. (AUTHOR)
Cerqueira, Maria F. (AUTHOR)
Deuermeier, Jonas (AUTHOR)
Delaup, Yorick (AUTHOR)
Ferraria, Ana M. (AUTHOR)
Ferreira, Isabel M. M. (AUTHOR)
Neupert, Holger (AUTHOR)
Himmerlich, Marcel (AUTHOR)
Rego, Ana Maria M. B. do (AUTHOR)
Rimoldi, Martino (AUTHOR)
Teodoro, Orlando M. N. D. (AUTHOR)
Vasilevskiy, Mikhail (AUTHOR)
Costa Pinto, Pedro (AUTHOR)
Źródło:
International Journal of Molecular Sciences. Aug2023, Vol. 24 Issue 16, p12999. 20p.
Czasopismo naukowe
Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknie Pełny tekstSzczegóły
Tytuł:
Effects of Oxygen Flow during Fabrication by Magnetron Sputtering on Structure and Performance of Zr-Doped HfO 2 Thin Films.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
Effects of Oxygen Flow during Fabrication by Magnetron Sputtering on Structure and Performance of Zr-Doped HfO 2 Thin Films.
Autorzy:
Xi, Yingxue (AUTHOR)
Liu, Lei (AUTHOR)
Zhao, Jiwu (AUTHOR)
Qin, Xinhui (AUTHOR)
Zhang, Jin (AUTHOR)
Zhang, Changming (AUTHOR)
Liu, Weiguo (AUTHOR)
Źródło:
Materials (1996-1944). Aug2023, Vol. 16 Issue 16, p5559. 13p.
Czasopismo naukowe
Pełny tekst  Link otwiera się w nowym oknie Pełny tekstSzczegóły
Wyświetlanie 1-20 z 30635

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies