Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę ""METAL semiconductor field-effect transistors"" wg kryterium: Temat


Tytuł:
Implementation and performance analysis of QPSK system using pocket double gate asymmetric JLTFET for satellite communications.
Autorzy:
Boggarapu, Lokesh
B, Lakshmi
Pokaż więcej
Temat:
QUADRATURE phase shift keying
TELECOMMUNICATION satellites
COMPLEMENTARY metal oxide semiconductors
FIELD-effect transistors
METAL semiconductor field-effect transistors
STRAY currents
TEMPERATURE inversions
Źródło:
Scientific Reports; 2/21/2023, Vol. 13 Issue 1, p1-15, 15p
Czasopismo naukowe
Tytuł:
Thermal property evaluation of a 2.5D integration method with device level microchannel direct cooling for a high-power GaN HEMT device.
Autorzy:
Lian, Tingting
Xia, Yanming
Wang, Zhizheng
Yang, Xiaofeng
Fu, Zhiwei
Kong, Xin
Lin, Shuxun
Ma, Shenglin
Pokaż więcej
Temat:
MODULATION-doped field-effect transistors
GALLIUM nitride
THERMAL properties
INDIUM gallium zinc oxide
METAL semiconductor field-effect transistors
COOLING
Źródło:
Microsystems & Nanoengineering; 11/11/2022, Vol. 8 Issue 1, p1-9, 9p
Czasopismo naukowe
Tytuł:
20.2 GHz‐µm fT–LG in InAlN/GaN‐on‐Si High Electron Mobility Transistors.
Autorzy:
Charan, Vanjari Sai
Muralidharan, Rangarajan
Raghavan, Srinivasan
Nath, Digbijoy N.
Pokaż więcej
Temat:
MODULATION-doped field-effect transistors
METAL semiconductor field-effect transistors
TRANSISTORS
Źródło:
Physica Status Solidi. A: Applications & Materials Science; Nov2022, Vol. 219 Issue 21, p1-5, 5p
Przedsiębiorstwo/ jednostka:
LG Corp.
Czasopismo naukowe
Tytuł:
LG 55 nm T‐gate InGaN/GaN channel based high electron mobility transistors for stable transconductance operation.
Autorzy:
Angamuthu, Revathy
ChettiaGoundar Sengodan, Boopathi
Anandan, Mohanbabu
Varghese, Arathy
Vakkalakula, Bharath Sreenivasulu
Pokaż więcej
Temat:
MODULATION-doped field-effect transistors
INDIUM gallium nitride
METAL semiconductor field-effect transistors
SILICON nitride
GALLIUM nitride
BREAKDOWN voltage
Źródło:
International Journal of RF & Microwave Computer-Aided Engineering; Oct2022, Vol. 32 Issue 10, p1-11, 11p
Przedsiębiorstwo/ jednostka:
LG Corp.
Czasopismo naukowe

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies