- Tytuł:
-
Electrical resistivity change in amorphous Ta
42 Si13 N45 films by stress relaxation - Autorzy:
- Źródło:
- Applied Physics A: Materials Science & Processing. March 2015 118(3):1153-1160
Czasopismo naukowe
Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.