Temat: "NITROGEN plasmas" - OpacWWW

Skocz do pozycji: 1.

Tytuł:: Post-annealing in ultra-high vacuum or nitrogen plasma for MoS2 thin films deposited by magnetron sputtering.
Autorzy:: Chao, Chih
Tsai, Ping-Yu
Wu, Po-Hung
Hong, Ray-Yu
Yu, Ing-Song; Pokaż więcej
Temat:: ULTRAHIGH vacuum
THIN films
NITROGEN plasmas
MAGNETRON sputtering
X-ray photoelectron spectroscopy
PHASE transitions
DIFFERENTIAL thermal analysis
Źródło:: AIP Advances; Mar2024, Vol. 14 Issue 3, p1-9, 9p

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 2.

Tytuł:: Synthesis of AlOxNy thin films using a two-step PE-ALD process.
Autorzy:: Zeghouane, Mohammed
Fernandes Paes Pinto Rocha, Pedro
Boubenia, Sarah
Bassani, Franck
Lefevre, Gauthier
Labau, Sebastien
Vauche, Laura
Martinez, Eugénie
Veillerot, Marc
Salem, Bassem; Pokaż więcej
Temat:: SECONDARY ion mass spectrometry
THIN films
ATOMIC layer deposition
AUGER electron spectroscopy
NITROGEN plasmas
TRANSMISSION electron microscopy
Źródło:: AIP Advances; Aug2023, Vol. 13 Issue 8, p1-8, 8p

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 3.

Tytuł:: Room-temperature photoluminescence of Mg-doped GaN thin films grown by plasma-assisted MOCVD.
Autorzy:: Arifin, Pepen (AUTHOR)
Sugianto (AUTHOR)
Subagio, Agus (AUTHOR)
Sutanto, Heri (AUTHOR)
Dwiputra, Donny (AUTHOR)
Florena, Fenfen F. (AUTHOR)
Keintjem, Aveni C. (AUTHOR)
Khaeroni, Rany (AUTHOR); Pokaż więcej
Źródło:: AIP Advances. Apr2020, Vol. 10 Issue 4, p1-7. 7p.

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 4.

Tytuł:: Optimization of parameters for generating nitrogen plasma in plasma-assisted MOCVD growth of InGaN thin films.
Autorzy:: Arifin, Pepen (AUTHOR)
Sutanto, Heri (AUTHOR)
Subagio, Agus (AUTHOR)
Sugianto, Sugianto (AUTHOR)
Mustajab, Muhammad A. (AUTHOR); Pokaż więcej
Źródło:: AIP Advances. Nov2019, Vol. 9 Issue 11, pN.PAG-N.PAG. 5p.

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 5.

Tytuł:: Effect of Nitrogen Plasma Afterglow on Amorphous Carbon Nitride Thin Films Deposited by Laser Ablation.
Autorzy:: Alkhawwam, A.
Abdallah, B.
Kayed, K.
Alshoufi, K.; Pokaż więcej
Źródło:: Acta Physica Polonica: A. Sep2011, Vol. 120 Issue 3, p545-551. 7p. 1 Black and White Photograph, 1 Diagram, 1 Chart, 7 Graphs.

Czasopismo naukowe

na półce

Pełny tekst Szczegóły

Skocz do pozycji: 6.

Tytuł:: Improvement of p-CuO/n-Si Heterojunction Solar Cell Performance Through Nitrogen Plasma Treatment.
Autorzy:: Abzal, Shaik Md.
Dash, Jatis Kumar
Mahata, Chandreswar
Guchhait, Asim
Kumar, Avishek
Ramakrishna, Seeram
Dalapati, Goutam Kumar; Pokaż więcej
Temat:: SILICON solar cells
NITROGEN plasmas
SOLAR cells
HETEROJUNCTIONS
RAPID thermal processing
THIN films
PHOTOVOLTAIC power systems
PHOTOCURRENTS
Źródło:: Journal of Electronic Materials; Apr2021, Vol. 50 Issue 4, p1720-1725, 6p

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 7.

Tytuł:: Plasma Treatment: a Novel Approach to Improve the Photoelectroactivity of Sb2S3 Thin Films to Water Splitting.
Autorzy:: Araújo, Moisés A.
Mascaro, Lucia H.; Pokaż więcej
Temat:: THIN films
HYDROGEN plasmas
NITROGEN plasmas
X-ray photoelectron spectroscopy
SCANNING electron microscopy
CHEMICAL microscopy
ELECTRON spectroscopy
Źródło:: ChemElectroChem; 5/15/2020, Vol. 7 Issue 10, p2325-2329, 5p

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 8.

Tytuł:: The Effect of the Ion Assistance Energy on the Electrical Resistivity of Carbon Films Prepared by Pulsed Plasma Deposition in a Nitrogen Atmosphere.
Autorzy:: Zavidovskii, I. A.
Streletskii, O. A.
Nishchak, O. Yu.
Khaidarov, A. A.; Pokaż więcej
Temat:: CARBON films
ION energy
ELECTRON energy loss spectroscopy
PLASMA deposition
ELECTRICAL energy
NITROGEN plasmas
GRAPHITE
Źródło:: Physics of the Solid State; Nov2019, Vol. 61 Issue 11, p2228-2232, 5p

Czasopismo naukowe

na półce

Pełny tekst Pełny tekst Szczegóły

Skocz do pozycji: 9.

Tytuł:: Homostructured rutile TiO2 nanotree arrays thin film electrodes with nitrogen doping for enhanced photoelectrochemical performance.
Autorzy:: Ning, Xiangmei
Huang, Jinliang
Li, Lihua
Gu, Yongjun
Jia, Shuguo
Qiu, Ranfeng
Li, Senlin
Kim, Bok H.; Pokaż więcej
Temat:: PHOTOELECTROCHEMISTRY
THIN films
RUTILE
ELECTRON transport
CHARGE carriers
CRYSTAL morphology
NITROGEN plasmas
ENERGY levels (Quantum mechanics)
Źródło:: Journal of Materials Science: Materials in Electronics; Sep2019, Vol. 30 Issue 17, p16030-16040, 11p

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 10.

Tytuł:: Unravelling the effect of nitrogen on the morphological evolution of thin silver films on weakly-interacting substrates.
Autorzy:: Sarakinos, K. (AUTHOR)
Babonneau, D. (AUTHOR)
Ramade, J. (AUTHOR)
Robin, Y. (AUTHOR)
Solanki, K. (AUTHOR)
Mizohata, K. (AUTHOR)
Tuboltsev, V. (AUTHOR)
Pliatsikas, N. (AUTHOR)
Krause, B. (AUTHOR)
Abadias, G. (AUTHOR); Pokaż więcej
Źródło:: Applied Surface Science. Mar2024, Vol. 649, pN.PAG-N.PAG. 1p.

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 11.

Tytuł:: Effect of nitrogen containing plasma on interface properties of sputtered ZrO2 thin films on silicon.
Autorzy:: Rao, Ashwath
Dwivedi, Anshuman
Goswami, Manish
Singh, B.R.; Pokaż więcej
Źródło:: Materials Science in Semiconductor Processing. Mar2014, Vol. 19, p145-149. 5p.

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 12.

Tytuł:: Elastic properties of tensile nitrogen-plasma-treated multilayer silicon nitride films.
Autorzy:: Braccini, M.
Volpi, F.
Devos, A.
Raymond, G.
Benoit, D.
Morin, P.; Pokaż więcej
Źródło:: Thin Solid Films. Jan2014, Vol. 551, p120-126. 7p.

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 13.

Tytuł:: Study on the tribological properties of plasma nitrided bearing steel under lubrication with borate ester additive.
Autorzy:: Wang, Song
Yue, Wen
Fu, Zhiqiang
Wang, Chengbiao
Li, Xingliang
Liu, Jiajun; Pokaż więcej
Źródło:: Tribology International. Oct2013, Vol. 66, p259-264. 6p.

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 14.

Tytuł:: Measurements of SiH4/H2 VHF Plasma Parameters with Heated Langmuir Probe.
Autorzy:: Yamane, T.
Nakao, S.
Takeuchi, Y.
Muta, H.
Ichiki, R.
Uchino, K.
Kawai, Y.; Pokaż więcej
Źródło:: Contributions to Plasma Physics. Sep2013, Vol. 53 Issue 8, p588-591. 4p.

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 15.

Tytuł:: Amorphous silicon carbonitride thin‐film coatings produced by remote nitrogen microwave plasma chemical vapour deposition using organosilicon precursor.
Autorzy:: Wrobel, A.M.
Uznanski, P.
Walkiewicz‐Pietrzykowska, A.
Jankowski, K.; Pokaż więcej
Temat:: SILICON carbonitride films
THIN films
FILM structure
NITROGEN plasmas
METHYLSILANE
Źródło:: Applied Organometallic Chemistry; Dec2017, Vol. 31 Issue 12, p1-N.PAG, 12p, 2 Charts, 7 Graphs

Czasopismo naukowe

na półce

Pełny tekst Szczegóły

Skocz do pozycji: 16.

Tytuł:: Modifications in SnS thin films by plasma treatments
Autorzy:: Martínez, H.
Avellaneda, D.; Pokaż więcej
Źródło:: Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B. Feb2012, Vol. 272, p351-356. 6p.

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 17.

Tytuł:: Effect of N2/H2 plasma treatment on the moisture adsorption of MOCVD–TiN films
Autorzy:: Huang, J.K.
Huang, Cheng-Liang
Chang, Shih-Chieh
Cheng, Yi-Lung
Wang, Ying-Lang; Pokaż więcej
Źródło:: Thin Solid Films. May2011, Vol. 519 Issue 15, p4948-4951. 4p.

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 18.

Tytuł:: Nitrogen plasma functionalization of low density polyethylene
Autorzy:: López-Santos, Carmen
Yubero, Francisco
Cotrino, José
González-Elipe, Agustín R.; Pokaż więcej
Źródło:: Surface & Coatings Technology. Feb2011, Vol. 205 Issue 11, p3356-3364. 9p.

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 19.

Tytuł:: Improvement of interfacial and microstructure properties of high-k ZrO2 thin films fabricated by filtered cathodic arc deposition using nitrogen incorporation
Autorzy:: Huang, A.P.
Di, Z.F.
Fu, Ricky K.Y.
Chu, Paul K.; Pokaż więcej
Źródło:: Surface & Coatings Technology. Aug2007, Vol. 201 Issue 19/20, p8282-8285. 4p.

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 20.

Tytuł:: Deposition of a TMDSO- Based Film by a Non- Equilibrium Atmospheric Pressure DC Plasma Jet.
Autorzy:: Deng, Xiaolong
Nikiforov, Anton Yu
De Geyter, Nathalie
Morent, Rino
Leys, Christophe; Pokaż więcej
Temat:: ATMOSPHERIC pressure
THIN films
NITROGEN plasmas
FOURIER transform infrared spectroscopy
X-ray photoelectron spectroscopy
Źródło:: Plasma Processes & Polymers; Jul2013, Vol. 10 Issue 7, p641-648, 8p

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Informacja

Wyszukujesz frazę ""NITROGEN plasmas"" wg kryterium: Temat

Źródło danych

Ogranicz do:

Ogranicz do bazy

Typ dokumentu

Temat

Wydawca

Publikacja

Język