Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Przeglądasz jako GOŚĆ

Wyszukujesz frazę ""Pain, L."" wg kryterium: Autor


Tytuł :
Materials meeting electronic requirements for Sub-10 nm lithography
Autorzy :
Navarro, C.
Nicolet, C.
Chevalier, X.
Xu, K.
Hockey, M. A.
Fleury, G.
Hadziioannou, G.
Legrain, A.
Zelsmann, M.
Pain, L.
Cayrefourcq, I.
Pokaż więcej
Temat :
[PHYS]Physics [physics]
ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Źródło :
Directed Self-Assembly Symposium – DSA 2017
Directed Self-Assembly Symposium – DSA 2017, Oct 2017, Chicago (USA), United States
Dostępność :
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::4df10f5961832eb637ca82b8033c5724
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01930180
Tytuł :
Si-containing high- block-copolymers for nanolithography applications
Autorzy :
Legrain, A.
Girardot, C.
Chevalier, X.
Navarro, C.
Cayrefourcq, I.
Fleury, G.
Claveau, G.
Tiron, R.
Pain, L.
Zelsmann, M.
Pokaż więcej
Temat :
[PHYS]Physics [physics]
ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Źródło :
Directed Self-Assembly Symposium – DSA 2016
Directed Self-Assembly Symposium – DSA 2016, Oct 2016, Grenoble, France
Dostępność :
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::49c92471c897b7cb8891d5051793ab65
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882744
Tytuł :
Resist outgassing assessment for multi electron beams lithography
Autorzy :
Mebiene-Engohang, A-P
Michallon, P.
Tiron, R.
Pain, L.
Boussey, J
Pokaż więcej
Temat :
[PHYS]Physics [physics]
ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Źródło :
Microelectronic Engineering
Microelectronic Engineering, Elsevier, 2014, Volume: 125 pp.Pages: 58-61
Dostępność :
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::a8b521db834c1680f3a4b46de9150256
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-01798352
Tytuł :
Investigation of the resist outgassing and hydrocarbonaceous contamination induced in multi electron beams lithography tools
Autorzy :
Mebiene-Engohang, A-P.
Pourteau, M., L.
Marusic, J., C.
Pain, L.
Nakayama, T.
MIYAKE, A
Smits, M.
David, S.
Labau, S.
Boussey, J.
Pokaż więcej
Temat :
[PHYS]Physics [physics]
ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Źródło :
Conference on Alternative Lithographic Technologies VI
Conference on Alternative Lithographic Technologies VI, 2014, san jose, United States
Dostępność :
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::6a901a6c977b2c7e3cf566880397a92a
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-01798368
Tytuł :
Nanoimprint, DSA, and multi-beam lithography: patterning technologies with new integration challenges
Autorzy :
Engelmann, Sebastian U.
Wise, Rich S.
Landis, S.
Teyssedre, H.
Claveau, G.
Servin, I.
Delachat, F.
Pourteau, M. L.
Gharbi, A.
Pimenta Barros, P.
Tiron, R.
Nouri, L.
Possemé, N.
May, M.
Brianceau, P.
Barnola, S.
Blancquaert, Y.
Pradelles, J.
Essomba, P.
Bernadac, A.
Dal'zotto, B.
Bos, S.
Argoud, M.
Chamiot-Maitral, G.
Sarrazin, A.
Tallaron, C.
Lapeyre, C.
Pain, L.
Pokaż więcej
Źródło :
Proceedings of SPIE; April 2017, Vol. 10149 Issue: 1 p101490K-101490K-13, 10047524p
Periodyk
Tytuł :
Combined lesions of cholinergic and serotonergic neurons in the rat brain using 192 IgG-saporin and 5,7-dihydroxytryptamine: neurochemical and behavioural characterization: Neurotoxic lesions of cholinergic/serotonergic neurons
Autorzy :
Lehmann, O. (Olivia)
Jeltsch, H. (Hélène)
Lehnardt, O. (Olivia)
Pain, L. (Laure)
Lazarus, C. (Christine)
Cassel, J. (Jean-Christophe)
Pokaż więcej
Temat :
Sciences du Vivant [q-bio]/Neurosciences [q-bio.NC]
Dostępność :
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______4060::38fe4adc9bef39e8ea0ed42f2e06e502
http://doi.wiley.com/10.1046/j.1460-9568.2000.00881.x
Tytuł :
Negative tone CAR resists for e-beam lithography : modification of chemical composition for R&D application (high resolution) or production application (high sensitivity)
Autorzy :
Charpin, M.
Pain, L.
Tedesco, S.
Gourgon, C.
Andrei, A.
Henry, Dominique
Laplanche, Y.
Hanawa, R.
Kusumoto, T.
Suetsugu, M.
Yokoyama, H.
Pokaż więcej
Temat :
ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Źródło :
SPIE's 2002 Symposium on Microlithography
SPIE's 2002 Symposium on Microlithography, 2002, santa clara, United States. pp.vol 4690 1157-1170
Dostępność :
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::f4737630164668ae97fee6238b8f2118
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00385931
Tytuł :
Resist composition effects on ultimate resolution of negative tone chemically amplified resists
Autorzy :
Pain, L.
Gourgon, C.
Patterson, K.
Scarfogliere, B.
Tedesco, S.
Fanget, G.
Dalzotto, B.
Ribeiro, M.
Kusumoto, T.
Suetsugu, M.
Hanawa, R.
Pokaż więcej
Temat :
ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Źródło :
SPIE's 2001 Symposium on Microlithography
SPIE's 2001 Symposium on Microlithography, 2001, santa clara, United States. pp.vol 4345 251-260
Dostępność :
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::cbb112abd2e5be3ca6c84c192a19f0f8
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00385924

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies