Autor: "Pain, L." - OpacWWW

Skocz do pozycji: 1 1.

Tytuł :: Evaluation of adhesion layers performances for soft UV nanoimprint lithography.
Autorzy :: Delachat, F.
Teyssedre, H.
Pain, L.
Chevalier, X
Nicolet, Célia
Navarro, Christophe; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; 1/21/2019, Vol. 10958, p1-7, 7p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 2 2.

Tytuł :: Spacer patterning lithography as a new process to induce block copolymer alignment by chemo-epitaxy.
Autorzy :: Paquet, A.
Le Pennec, A.
Gharbi, A.
Giammaria, T. J.
Rademaker, G.
Pourteau, M-L.
Mariolle, D.
Navarro, C.
Nicolet, C.
Chevalier, X.
Sakavuyi, K.
Pain, L.
Nealey, P.
Tiron, R.; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; 1/21/2019, Vol. 10958, p1-11, 11p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 3 3.

Tytuł :: Materials meeting electronic requirements for Sub-10 nm lithography
Autorzy :: Navarro, C.
Nicolet, C.
Chevalier, X.
Xu, K.
Hockey, M. A.
Fleury, G.
Hadziioannou, G.
Legrain, A.
Zelsmann, M.
Pain, L.
Cayrefourcq, I.; Pokaż więcej
Temat :: [PHYS]Physics [physics]
ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Źródło :: Directed Self-Assembly Symposium – DSA 2017
Directed Self-Assembly Symposium – DSA 2017, Oct 2017, Chicago (USA), United States

Szczegóły

Skocz do pozycji: 4 4.

Tytuł :: Materials meeting electronic requirements for Sub-10 nm lithography
Autorzy :: Navarro, C.
Nicolet, C.
Chevalier, X.
Xu, K.
Hockey, M. A.
Fleury, G.
Hadziioannou, G.
Legrain, A.
Zelsmann, M.
Pain, L.
Cayrefourcq, I.; Pokaż więcej
Temat :: [PHYS]Physics [physics]
Źródło :: Directed Self-Assembly Symposium – DSA 2017
Directed Self-Assembly Symposium – DSA 2017, Oct 2017, Chicago (USA), United States

Szczegóły

Skocz do pozycji: 5 5.

Tytuł :: Recent Achievements in sub-10 nm DSA lithography for Line/Space patterning
Autorzy :: Navarro, C.
Nicolet, C.
Ariura, F.
Chevalier, X.
Xu, K.
Hockey, M. A.
Mumtaz, M.
Fleury, G.
Hadziioannou, G.
Legrain, A.
Zelsmann, M.
Gharbi, A.
Tiron, R.
Pain, L.
Evangelio, L.
Fernández-Regúlez, M.
Pérez-Murano, F.
Cayrefourcq, I.; Pokaż więcej
Temat :: [PHYS]Physics [physics]
ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Źródło :: 34th International Conference of Photopolymer Science and Technology, Jun 2017, chiba, Japan
34th International Conference of Photopolymer Science and Technology

Szczegóły

Skocz do pozycji: 6 6.

Tytuł :: Recent Achievements in sub-10 nm DSA lithography for Line/Space patterning
Autorzy :: Navarro, C.
Nicolet, C.
Ariura, F.
Chevalier, X.
Xu, K.
Hockey, M. A.
Mumtaz, M.
Hadziioannou, G.
Legrain, A.
Zelsmann, M.
Gharbi, A.
Tiron, R.
Pain, L.
Evangelio, L.
Fernández-Regúlez, M.
Pérez-Murano, F.
Cayrefourcq, I.; Pokaż więcej
Temat :: [PHYS]Physics [physics]
Źródło :: Journal of Photopolymer Science and Technology, Technical Assoc of Photopolymers Japan, 2017, 30, pp.69-75. ⟨10.2494/photopolymer.30.69⟩
Journal of Photopolymer Science and Technology

Szczegóły

Skocz do pozycji: 7 7.

Tytuł :: Si-containing high- block-copolymers for nanolithography applications
Autorzy :: Legrain, A.
Girardot, C.
Chevalier, X.
Navarro, C.
Cayrefourcq, I.
Fleury, G.
Claveau, G.
Tiron, R.
Pain, L.
Zelsmann, M.; Pokaż więcej
Temat :: [PHYS]Physics [physics]
ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Źródło :: Directed Self-Assembly Symposium – DSA 2016, Oct 2016, Grenoble, France
Directed Self-Assembly Symposium – DSA 2016

Szczegóły

Skocz do pozycji: 8 8.

Tytuł :: Si-containing high- block-copolymers for nanolithography applications
Autorzy :: Legrain, A.
Girardot, C.
Chevalier, X.
Navarro, C.
Cayrefourcq, I.
Fleury, G.
Claveau, G.
Tiron, R.
Pain, L.
Zelsmann, M.; Pokaż więcej
Temat :: [PHYS]Physics [physics]
Źródło :: Directed Self-Assembly Symposium – DSA 2016
Directed Self-Assembly Symposium – DSA 2016, Oct 2016, Grenoble, France

Szczegóły

Skocz do pozycji: 9 9.

Tytuł :: Pillars fabrication by DSA lithography: material and process options.
Autorzy :: Gharbi, A.
Pimenta-Barros, P.
Saouaf, O.
Reynaud, G.
Pain, L.
Tiron, R.
Navarro, C.
Nicolet, C.
Cayrefourcq, I.
Perego, M.
Perez-Murano, F.
Amat, E.
Fernandez-Regulez, M.; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; 1/14/2018, Vol. 10586, p1-7, 7p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 10 10.

Tytuł :: Precise control of template affinity achieved by UV-assisted graphoepitaxy approach on silicon nanowires applications.
Autorzy :: Pimenta-Barros, P.
Claveau, G.
Argoud, M.
Chalupa, Z.
Allouti, N.
Comboroure, C.
Chamiot Maitral, G.
Posseme, N.
Pain, L.
Tiron, R.
Navarro, C.
Nicolet, C.
Cayrefourcq, I.; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; 1/12/2018, Vol. 10584, p1-9, 9p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 11 11.

Tytuł :: Assessment of carbon layer growth induced by resists outgassing in multi e-beams lithography
Autorzy :: Marusic, J., C.
Pourteau, M., L.
Cetre,, S.
Pain, L.
Mebiene Engohang, A.
David, S.
Labau, S.
Boussey, J.; Pokaż więcej
Temat :: [PHYS]Physics [physics]
ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Źródło :: Conference on Photomask Technology, Sep 2014, Monterey, United States
Conference on Photomask Technology

Szczegóły

Skocz do pozycji: 12 12.

Tytuł :: Resist outgassing assessment for multi electron beams lithography
Autorzy :: Mebiene-Engohang,, A-P
Michallon,, P.
Tiron,, R.
Pain, L.
Boussey, J; Pokaż więcej
Temat :: [PHYS]Physics [physics]
ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Źródło :: Microelectronic Engineering, Elsevier, 2014, Volume: 125 pp.Pages: 58-61
Microelectronic Engineering

Szczegóły

Skocz do pozycji: 13 13.

Tytuł :: Investigation of the optics system carbonaceous contamination induced by chemically amplified resist outgassing under e-beam radiation
Autorzy :: Mebiene-Engohang, A., -P.
Pourteau, M., -L.
Marusic, J., -C.
Pain, L.
David, S.
Labau, S.
Boussey, J.; Pokaż więcej
Temat :: [PHYS]Physics [physics]

Szczegóły

Skocz do pozycji: 14 14.

Tytuł :: Investigation of the resist outgassing and hydrocarbonaceous contamination induced in multi electron beams lithography tools
Autorzy :: Mebiene-Engohang,, A-P.
Pourteau, M., L.
Marusic, J., C.
Pain, L.
Nakayama, T.
MIYAKE, A
Smits, M.
David, S.
Labau, S.
Boussey, J.; Pokaż więcej
Temat :: [PHYS]Physics [physics]
Źródło :: Conference on Alternative Lithographic Technologies VI
Conference on Alternative Lithographic Technologies VI, 2014, san jose, United States

Szczegóły

Skocz do pozycji: 15 15.

Tytuł :: Investigation of the optics system carbonaceous contamination induced by chemically amplified resist outgassing under e-beam radiation
Autorzy :: Mebiene-Engohang, A., -P.
Pourteau, M., -L.
Marusic, J., -C.
Pain, L.
David, S.
Labau, S.
Boussey, J.; Pokaż więcej
Temat :: [PHYS]Physics [physics]
ComputingMilieux_MISCELLANEOUS

Szczegóły

Skocz do pozycji: 16 16.

Tytuł :: Precise control of template affinity achieved by UV-assisted graphoepitaxy approach on silicon nanowires applications
Autorzy :: Panning, Eric M.
Sanchez, Martha I.
Pimenta-Barros, P.
Claveau, G.
Argoud, M.
Chalupa, Z.
Allouti, N.
Comboroure, C.
Chamiot-Maitral, G.
Posseme, N.
Pain, L.
Tiron, R.
Navarro, C.
Nicolet, C.
Cayrefourcq, I.; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; March 2018, Vol. 10584 Issue: 1 p105840C-105840C-9, 952570p
: Periodyk

Szczegóły

Skocz do pozycji: 17 17.

Tytuł :: Pillars fabrication by DSA lithography: material and process options
Autorzy :: Hohle, Christoph K.
Gronheid, Roel
Gharbi, A.
Pimenta-Barros, P.
Saouaf, O.
Reynaud, G.
Pain, L.
Tiron, R.
Navarro, C.
Nicolet, C.
Cayrefourcq, I.
Perego, M.
Pérez-Murano, F.
Amat, E.
Fernández-Regúlez, M.; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; March 2018, Vol. 10586 Issue: 1 p105860Q-105860Q-7, 952748p
: Periodyk

Szczegóły

Skocz do pozycji: 18 18.

Tytuł :: Role of cyclic AMP in the prejunctional α2-adrenoceptor modulation of noradrenaline release from the rat tail artery
Autorzy :: Bucher, B.
Pain, L.
Stoclet, J. C.
Illes, P.; Pokaż więcej
Źródło :: Naunyn-Schmiedeberg's Archives of Pharmacology. December 1990 342(6):640-649
: Czasopismo naukowe

Szczegóły

Skocz do pozycji: 19 19.

Informacja :: Dostęp do tej pozycji wymaga zalogowania się.
: Czasopismo naukowe

Szczegóły

Skocz do pozycji: 20 20.

Tytuł :: The potential of block copolymer's directed self-assembly for contact hole shrink and contact multiplication
Autorzy :: Tiron, R.
Gharbi, A.
Argoud, M.
Chevalier, X.
Belledent, J.
Barros, Pp.
Servin, I.
Navarro, C.
Cunge, G.
Barnola, S.
Pain, L.
Asai, M.
Pieczulewski, C.; Pokaż więcej
Źródło :: ALTERNATIVE LITHOGRAPHIC TECHNOLOGIES V Book Series: Proceedings of SPIE
SPIE, 2013, United States. pp.UNSP 868012, ⟨10.1117/12.2011477⟩

Szczegóły

Informacja

Prolib Integro - strona głównaUniwersytet Ekonomiczny we Wrocławiu

Wyszukujesz frazę ""Pain, L."" wg kryterium: Autor

Źródło danych

Ogranicz do:

Ogranicz do bazy

Typ dokumentu

Temat

Wydawca

Publikacja

Język