Autor: "Pargon, Erwine" - OpacWWW

Skocz do pozycji: 1.

Tytuł:: Faceting mechanisms of GaN nanopillar under KOH wet etching
Autorzy:: Jaloustre, Lucas
Sales De Mello, Saron
Labau, Sébastien
Petit-Etienne, Camille
Pargon, Erwine; Pokaż więcej
Źródło:: In Materials Science in Semiconductor Processing April 2024 173

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 2.

Tytuł:: 3D interconnects for III-V semiconductor heterostructures for miniaturized power devices
Autorzy:: de Lafontaine, Mathieu
Bidaud, Thomas
Gay, Guillaume
Pargon, Erwine
Petit-Etienne, Camille
Turala, Artur
Stricher, Romain
Ecoffey, Serge
Volatier, Maïté
Jaouad, Abdelatif
Valdivia, Christopher E.
Hinzer, Karin
Fafard, Simon
Aimez, Vincent
Darnon, Maxime; Pokaż więcej
Źródło:: In Cell Reports Physical Science 20 December 2023 4(12)

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 3.

Tytuł:: Programmable frequency-bin quantum states in a nano-engineered silicon device
Autorzy:: Clementi, MarcoAff1, Aff7, IDs41467022357736_cor1
Sabattoli, Federico AndreaAff1, Aff8
Borghi, Massimo
Gianini, LindaAff2, Aff3
Tagliavacche, Noemi
El Dirani, HousseinAff3, Aff9
Youssef, LaureneAff4, Aff10
Bergamasco, Nicola
Petit-Etienne, Camille
Pargon, Erwine
Sipe, J. E.
Liscidini, Marco
Sciancalepore, CorradoAff3, Aff11
Galli, MatteoAff1, IDs41467022357736_cor14
Bajoni, Daniele; Pokaż więcej
Źródło:: Nature Communications. 14(1)

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 4.

Tytuł:: Preferential crystal orientation etching of GaN nanopillars in Cl2 plasma
Autorzy:: Jaloustre, Lucas
Ackermann, Valentin
Sales De Mello, Saron
Labau, Sébastien
Petit-Etienne, Camille
Pargon, Erwine; Pokaż więcej
Źródło:: In Materials Science in Semiconductor Processing October 2023 165

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 5.

Tytuł:: Anisotropic and low damage III-V/Ge heterostructure etching for multijunction solar cell fabrication with passivated sidewalls
Autorzy:: de Lafontaine, Mathieu
Pargon, Erwine
Gay, Guillaume
Petit-Etienne, Camille
David, Sylvain
Barnes, Jean-Paul
Rochat, Névine
Jaouad, Abdelatif
Volatier, Maïté
Fafard, Simon
Aimez, Vincent
Darnon, Maxime; Pokaż więcej
Źródło:: In Micro and Nano Engineering June 2021 11

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 6.

Tytuł:: Photoluminescence mapping of the strain induced in InP and GaAs substrates by SiNx stripes etched from thin films grown under controlled mechanical stress
Autorzy:: Gérard, Solène
Mokhtari, Merwan
Landesman, Jean-Pierre
Levallois, Christophe
Fouchier, Marc
Pargon, Erwine
Pagnod-Rossiaux, Philippe
Laruelle, François
Moréac, Alain
Ahammou, Brahim
Cassidy, Daniel T.; Pokaż więcej
Źródło:: In Thin Solid Films 31 July 2020 706

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 7.

Tytuł:: Blister formation mechanism during high dose implanted photoresist stripping
Autorzy:: Croisy, Marion
Pargon, Erwine
Jenny, Cécile
Richard, Claire
Guiheux, Denis
Joblot, Sylvain
Campo, Alain
Possémé, Nicolas; Pokaż więcej
Źródło:: In Microelectronic Engineering 5 July 2018 194:25-30

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 8.

Tytuł:: Cooperative Spontaneous Four-wave Mixing in Single-channel and Dualchannel Sequences of Side-coupled Ring Resonators
Autorzy:: Mataji-Kojouri Amideddin
Borghi Massimo
Sabattoli Federico A.
El Dirani Houssein
Youssef Laurene
Petit-Etienne Camille
Pargon Erwine
Sipe John E.
Liscidini Marco
Sciancalepore Corrado
Galli Matteo
Bajoni Daniele; Pokaż więcej
Temat:: Physics
QC1-999
Źródło:: EPJ Web of Conferences, Vol 266, p 08007 (2022)
Opis pliku:: electronic resource
Relacje:: https://www.epj-conferences.org/articles/epjconf/pdf/2022/10/epjconf_eosam2022_08007.pdf; https://doaj.org/toc/2100-014X
Dostęp URL:: https://doaj.org/article/e33481d02e1643f38194abcdefa2c92d Link otwiera się w nowym oknie

Czasopismo naukowe

na półce

Pełny tekst Szczegóły

Skocz do pozycji: 9.

Tytuł:: Characterization of Plasma Induced Damage and Strain on InP Patterns and Their Impact on Luminescence
Autorzy:: Fouchier, Marc
Fahed, Maria
Pargon, Erwine
Rochat, Névine
Landesman, Jean-Pierre
Rouchon, Denis
Roque, Joyce
Rovayaz, Karine
Martinez, Eugénie
Labau, Sébastien; Pokaż więcej
Źródło:: MRS Advances. 3(57-58):3373-3378

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 10.

Tytuł:: Mechanical Stress in InP Structures Etched in an Inductively Coupled Plasma Reactor with Ar/Cl2/CH4 Plasma Chemistry
Autorzy:: Landesman, Jean-PierreAff1, Aff2
Cassidy, Daniel T.
Fouchier, Marc
Pargon, Erwine
Levallois, Christophe
Mokhtari, Merwan
Jimenez, Juan
Torres, Alfredo; Pokaż więcej
Źródło:: Journal of Electronic Materials. 47(9):4964-4969

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 11.

Tytuł:: Investigation of the TiN/photoresist interface degradation during a wet etch
Autorzy:: Foucaud, Mathieu
Guiheux, Denis
Pinceau, David
Garnier, Philippe
Pargon, Erwine
Tiron, Raluca; Pokaż więcej
Źródło:: In Microelectronic Engineering 5 March 2015 135:7-12

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 12.

Tytuł:: 2D and 3D photoresist line roughness characterization
Autorzy:: Vaglio Pret, Alessandro
Kunnen, Eddy
Gronheid, Roel
Pargon, Erwine
Luere, Olivier
Bianchi, Davide; Pokaż więcej
Źródło:: In Microelectronic Engineering October 2013 110:100-107

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 13.

Informacja:: Dostęp do tej pozycji wymaga zalogowania się.

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 14.

Tytuł:: Mechanical Stress in InP Structures Etched in an Inductively Coupled Plasma Reactor with Ar/Cl2/CH4 Plasma Chemistry.
Autorzy:: Landesman, Jean-Pierre
Cassidy, Daniel T.
Fouchier, Marc
Pargon, Erwine
Levallois, Christophe
Mokhtari, Merwan
Jimenez, Juan
Torres, Alfredo; Pokaż więcej
Temat:: CRYSTAL lattices
MATHEMATICAL crystallography
DEFORMATIONS (Mechanics)
INDIUM phosphide
PLASMA etching
Źródło:: Journal of Electronic Materials; Sep2018, Vol. 47 Issue 9, p4964-4969, 6p

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 15.

Informacja:: Dostęp do tej pozycji wymaga zalogowania się.

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 16.

Informacja:: Dostęp do tej pozycji wymaga zalogowania się.

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 17.

Tytuł:: HBr Plasma Treatment Versus VUV Light Treatment to Improve 193 nm Photoresist Pattern Linewidth Roughness.
Autorzy:: Pargon, Erwine
Azarnouche, Laurent
Fouchier, Marc
Menguelti, Kevin
Tiron, Raluca
Sourd, Claire
Joubert, Olivier; Pokaż więcej
Źródło:: Plasma Processes & Polymers; 12/20/2011, Vol. 8 Issue 12, p1184-1195, 12p

Czasopismo naukowe

na półce

Szczegóły

Informacja

Wyszukujesz frazę ""Pargon, Erwine"" wg kryterium: Autor

Źródło danych

Ogranicz do:

Ogranicz do bazy

Typ dokumentu

Temat

Wydawca

Publikacja

Język

Rok publikacji