Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Przeglądasz jako GOŚĆ

Wyszukujesz frazę ""Planchot, J."" wg kryterium: Autor


Tytuł :
Three-dimensional mask effects and source polarization impact on OPC model accuracy and process window.
Autorzy :
Saied, M.
Foussadier, F.
Belledent, J.
Trouiller, Y.
Schanen, I.
Gardin, C.
Urbani, J. C.
Montgomery, P. K.
Sundermann, F.
Robert, F.
Couderc, C.
Vautrin, F.
Kerrien, G.
Planchot, J.
Yesilada, E.
Martinelli, C.
Wilkinson, B.
Borjon, A.
Le-Cam, L.
Di-Maria, J. L.
Pokaż więcej
Źródło :
Proceedings of SPIE; Nov2007 Part 2, Issue 1, p65204Q-65204Q-12, 12p
Konferencja

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies