- Tytuł:
- Stability of La2O3 and GeO2 passivated Ge surfaces during ALD of ZrO2 high-k dielectric
- Autorzy:
- Źródło:
- In Applied Surface Science 1 February 2012 258(8):3444-3449
Czasopismo naukowe
Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.