- Tytuł:
- Competitive and cost effective copper/low-k interconnect (BEOL) for 28 nm CMOS technologies
- Autorzy:
- Źródło:
- In Microelectronic Engineering April 2012 92:42-44
Czasopismo naukowe
Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.