- Tytuł:
- Formation of crystalline Si1-xGex top layers by ion implantation in crystalline silicon
- Autorzy:
- Źródło:
- In Nuclear Inst. and Methods in Physics Research, B May 2023 538:17-23
Czasopismo naukowe
Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.