Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Przeglądasz jako GOŚĆ

Wyszukujesz frazę ""Seiboth, Frank"" wg kryterium: Autor


Tytuł :
Hard X‐ray wavefront correction via refractive phase plates made by additive and subtractive fabrication techniques.
Autorzy :
Seiboth, Frank (AUTHOR) frank.seiboth@desy.de
Brückner, Dennis (AUTHOR)
Kahnt, Maik (AUTHOR)
Lyubomirskiy, Mikhail (AUTHOR)
Wittwer, Felix (AUTHOR)
Dzhigaev, Dmitry (AUTHOR)
Ullsperger, Tobias (AUTHOR)
Nolte, Stefan (AUTHOR)
Koch, Frieder (AUTHOR)
David, Christian (AUTHOR)
Garrevoet, Jan (AUTHOR)
Falkenberg, Gerald (AUTHOR)
Schroer, Christian G. (AUTHOR)
Pokaż więcej
Źródło :
Journal of Synchrotron Radiation. Sep2020, Vol. 27 Issue 5, p1121-1130. 10p.
Czasopismo naukowe
Tytuł :
Nanofocusing with aberration‐corrected rotationally parabolic refractive X‐ray lenses. Corrigendum.
Autorzy :
Seiboth, Frank (AUTHOR) frank.seiboth@desy.de
Wittwer, Felix (AUTHOR)
Scholz, Maria (AUTHOR)
Kahnt, Maik (AUTHOR)
Seyrich, Martin (AUTHOR)
Schropp, Andreas (AUTHOR)
Wagner, Ulrich (AUTHOR)
Rau, Christoph (AUTHOR)
Garrevoet, Jan (AUTHOR)
Falkenberg, Gerald (AUTHOR)
Schroer, Christian G. (AUTHOR)
Pokaż więcej
Źródło :
Journal of Synchrotron Radiation. May2021, Vol. 28 Issue 3, p1030-1030. 1p.
Czasopismo naukowe
Tytuł :
Ptychography with a Virtually Enlarged Illumination
Autorzy :
Wittwer, Felix
Hoppe, Robert
Seiboth, Frank
Reinhardt, Juliane
Scholz, Maria
Schroer, Christian
Pokaż więcej
Temat :
ddc:570
Instrumentation
Materials science
Optics
business.industry
business
Ptychography
Źródło :
Microscopy and microanalysis 24(S2), 48-49 (2018). doi:10.1017/S1431927618012667
14th International Conference on X-ray Microscopy, Saskatoon, Canada, 2018-08-20-2018-08-24
Crossref
Dostępność :
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::56d84419ce51480cbf648882cf3f2266
Tytuł :
Scanning Hard X-Ray Microscopy Based on Be CRLs
Autorzy :
Schropp, Andreas
Bruckner, Dennis
Bulda, Jessica
Falkenberg, Gerald
Garrevoet, Jan
Seiboth, Frank
Wittwer, Felix
Koch, Frieder
David, Christian
Schroer, Christian G.
Pokaż więcej
Temat :
Instrumentation
Optics
business.industry
business
Microscopy
Materials science
X-ray
ddc:570
Źródło :
Crossref
Microscopy and microanalysis 24(S2), 186-187 (2018). doi:10.1017/S1431927618013284
14th International Conference on X-ray Microscopy, XRM2018, Saskatoon, Canada, 2018-08-19-2018-08-24
Dostępność :
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::06bf9bfb52b8d4d490f07780531306d2
Tytuł :
Aberration correction for hard x-ray focusing at the nanoscale
Autorzy :
Rahomäki, Jussi
Wagner, Ulrich H.
Seiboth, Frank
Schropp, Andreas
Scholz, Maria
Wittwer, Felix
Rödel, Christian
Wünsche, Martin
Ullsperger, Tobias
Nolte, Stefan
Parfeniukas, Karolis
Giakoumidis, Stylianos
Vogt, Ulrich
Rau, Christoph
Boesenberg, Ulrike
Garrevoet, Jan
Falkenberg, Gerald
Galtier, Eric C.
Lee, Hae Ja
Nagler, Bob
Schroer, Christian G.
Pokaż więcej
Temat :
Residual
Ptychography
Phase plate
X-ray
Materials science
X-ray optics
Refraction
Nanoscopic scale
Optics
business.industry
business
ddc:620
Źródło :
Crossref
Proceedings of SPIE 10386, 103860A (2017). doi:10.1117/12.2274030
Advances in X-Ray/EUV Optics and Components XII : [Proceedings]-SPIE, 2017.-ISBN 9781510612297 ISBN 9781510612303-doi:10.1117/12.2274030
Advances in X-Ray/EUV Optics and Components XII : [Proceedings]-SPIE, 2017.-ISBN 9781510612297 ISBN 9781510612303-doi:10.1117/12.2274030Advances in X-Ray/EUV Optics and Components XII, San Diego, USA, 2017-08-06-2017-08-10
Dostępność :
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::ca82b58cb5899ccac71cb8ed2256a999

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies