- Tytuł:
- Simulation of plasma properties in magnetron sputtering for two kinds of cathode targets.
- Autorzy:
- Źródło:
- Radiation Detection Technology & Methods; Mar2020, Vol. 4 Issue 1, p10-16, 7p
Czasopismo naukowe
Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.