Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Przeglądasz jako GOŚĆ

Wyszukujesz frazę ""Suemitsu, M."" wg kryterium: Autor


Tytuł :
Mechanical and tribological properties of boron, nitrogen-coincorporated diamond-like carbon films prepared by reactive radio-frequency magnetron sputtering
Autorzy :
Nakazawa, H.
Pokaż więcej
Źródło :
In Proceedings of Diamond 2009, The 20th European Conference on Diamond, Diamond-Like Materials, Carbon Nanotubes and Nitrides, Part 1, Diamond & Related Materials 2010 19(5):503-506
Czasopismo naukowe
Tytuł :
Atomic hydrogen etching of silicon-incorporated diamond-like carbon films prepared by pulsed laser deposition
Autorzy :
Nakazawa, H.
Pokaż więcej
Źródło :
In Proceedings of Diamond 2008, the 19th European Conference on Diamond, Diamond-Like Materials, Carbon Nanotubes, Nitrides and Silicon Carbide, Diamond & Related Materials 2009 18(5):831-834
Czasopismo naukowe
Tytuł :
Low-temperature formation of silicon nitride films using pulsed-plasma CVD under near atmospheric pressure
Autorzy :
Matsumoto, M.
Pokaż więcej
Źródło :
In Fifth International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces ISCSI-V, Applied Surface Science 2008 254(19):6208-6210
Czasopismo naukowe
Tytuł :
Low temperature growth of polycrystalline Si on polyethylene terephthalate (PET) films using pulsed-plasma CVD under near atmospheric pressure
Autorzy :
Matsumoto, M.
Pokaż więcej
Źródło :
In 20th Symposium on Plasma Science for Materials (SPSM-20), Thin Solid Films 2008 516(19):6673-6676
Czasopismo naukowe
Tytuł :
Initial oxidation of HF-acid treated Si(1 0 0) surfaces under air exposure studied by synchrotron radiation X-ray photoelectron spectroscopy
Autorzy :
Hirose, F.
Pokaż więcej
Źródło :
In Surface Science 2007 601(11):2302-2306
Czasopismo naukowe
Tytuł :
Carrier recombination velocities at the SiO 2/Si interface investigated by a photo-thermal reflection microscopy
Autorzy :
Ikari, T.
Pokaż więcej
Źródło :
In EMRS 2005, Symposium D Materials Science and Device Issues for Future Technologies, Materials Science & Engineering B 2005 124:345-348
Czasopismo naukowe

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies