- Tytuł:
- Theoretical analysis and optimization of high-k dielectric layers for designing high-performance and low-power-dissipation nanoscale double-gate MOSFETs
- Autorzy:
- Źródło:
- Journal of Computational Electronics. 18(3):924-940
Czasopismo naukowe
Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.