- Tytuł:
- Comparative study of structural and stoichiometric properties of titanium nitride films deposited by cathodic cage plasma deposition and magnetron sputtering
- Autorzy:
- Źródło:
- The European Physical Journal Plus. 137(3)
Czasopismo naukowe
Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.