- Tytuł:
- Hydrogen plasma treatment of very thin p-type nanocrystalline Si films grown by RF-PECVD in the presence of B(CH3)3
- Autorzy:
- Temat:
-
Materials of engineering and construction. Mechanics of materials
TA401-492
Biotechnology
TP248.13-248.65 - Źródło:
- Science and Technology of Advanced Materials, Vol 13, Iss 4, p 045004 (2012)
- Opis pliku:
- electronic resource
- Relacje:
- https://doaj.org/toc/1468-6996; https://doaj.org/toc/1878-5514
- Dostęp URL:
- https://doaj.org/article/4736c188716a47379b666a09fde59a36 Link otwiera się w nowym oknie
Czasopismo naukowe