- Tytuł :
-
Effects of Oxidation Duration on the Structural and Electrical Characteristics of Ho
2 O3 Gate Oxide on 4H-SiC Substrate - Autorzy :
- Źródło :
- Journal of Electronic Materials. :1-11
-
Czasopismo naukowe
Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.