- Tytuł:
- Conformal and Ultra Shallow Junction Formation Achieved Using a Pulsed-Laser Annealing Process Integrated With a Modified Plasma Assisted Doping Method
- Autorzy:
- Temat:
-
Ultra-shallow junction
phosphorus
plasma assisted doping
laser annealing process
Electrical engineering. Electronics. Nuclear engineering
TK1-9971 - Źródło:
- IEEE Access, Vol 8, Pp 172166-172174 (2020)
- Opis pliku:
- electronic resource
- Relacje:
- https://ieeexplore.ieee.org/document/9200462/; https://doaj.org/toc/2169-3536
- Dostęp URL:
- https://doaj.org/article/f1fa4a6838f043fc901446b48cd59073  Link otwiera się w nowym oknie
Czasopismo naukowe