Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Przeglądasz jako GOŚĆ

Wyszukujesz frazę ""Yoo, Won Jong"" wg kryterium: Autor


Tytuł :
Large-area single-crystal AB-bilayer and ABA-trilayer graphene grown on a Cu/Ni(111) foil
Autorzy :
Huang, MingAff1, Aff2
Bakharev, Pavel V.
Wang, Zhu-JunAff3, Aff4
Biswal, Mandakini
Yang, Zheng
Jin, Sunghwan
Wang, Bin
Park, Hyo JuAff1, Aff2
Li, YunqingAff1, Aff2
Qu, Deshun
Kwon, Youngwoo
Chen, Xianjue
Lee, Sun Hwa
Willinger, Marc-GeorgAff3, Aff4
Yoo, Won Jong
Lee, ZonghoonAff1, Aff2
Ruoff, Rodney S.Aff1, Aff2, Aff6, Aff7
Pokaż więcej
Źródło :
Nature Nanotechnology. 15(4):289-295
Czasopismo naukowe
Tytuł :
High performance WSe2 p-MOSFET with intrinsic n-channel based on back-to-back p–n junctions.
Autorzy :
Liu, Xiaochi
Pan, Yuchuan
Yang, Junqiang
Qu, Deshun
Li, Huamin
Yoo, Won Jong
Sun, Jian
Pokaż więcej
Temat :
FIELD-effect transistors
THIN film transistors
METAL oxide semiconductor field
METAL oxide semiconductor field-effect transistors
HOLE mobility
BORON nitride
OXYGEN plasmas
Źródło :
Applied Physics Letters; 6/21/2021, Vol. 118 Issue 23, p1-6, 6p
Czasopismo naukowe
Tytuł :
Patterning metal contacts on monolayer MoS2 with vanishing Schottky barriers using thermal nanolithography
Autorzy :
Zheng, XiaoruiAff1, Aff2
Calò, AnnalisaAff1, Aff2
Albisetti, EdoardoAff1, Aff2, Aff3
Liu, XiangyuAff1, Aff2
Alharbi, Abdullah Sanad M.
Arefe, Ghidewon
Liu, Xiaochi
Spieser, Martin
Yoo, Won Jong
Taniguchi, Takashi
Watanabe, Kenji
Aruta, Carmela
Ciarrocchi, Alberto
Kis, Andras
Lee, Brian S.
Lipson, Michal
Hone, James
Shahrjerdi, Davood
Riedo, ElisaAff1, Aff2
Pokaż więcej
Źródło :
Nature Electronics. 2(1):17-25
Czasopismo naukowe
Tytuł :
Fermi‐Level Pinning Free High‐Performance 2D CMOS Inverter Fabricated with Van Der Waals Bottom Contacts.
Autorzy :
Ngo, Tien Dat
Yang, Zheng
Lee, Myeongjin
Ali, Fida
Moon, Inyong
Kim, Dong Gyu
Taniguchi, Takashi
Watanabe, Kenji
Lee, Kang‐Yoon
Yoo, Won Jong
Pokaż więcej
Temat :
METAL oxide semiconductor field
METALWORK
FIELD-effect transistors
ELECTRON work function
SEMICONDUCTOR devices
METAL oxide semiconductor field-effect transistors
TRANSISTORS
METALLIC oxides
Źródło :
Advanced Electronic Materials; May2021, Vol. 7 Issue 5, p1-7, 7p
Czasopismo naukowe
Tytuł :
Damage-Free Atomic Layer Etch of WSe2: A Platform for Fabricating Clean Two-Dimensional Devices.
Autorzy :
Nipane, Ankur
Choi, Min Sup
Sebastian, Punnu Jose
Yao, Kaiyuan
Borah, Abhinandan
Deshmukh, Prathmesh
Jung, Younghun
Kim, Bumho
Rajendran, Anjaly
Kwock, Kevin W. C.
Zangiabadi, Amirali
Menon, Vinod M.
Schuck, P. James
Yoo, Won Jong
Hone, James
Teherani, James T.
Pokaż więcej
Źródło :
ACS Applied Materials & Interfaces; 1/13/2021, Vol. 13 Issue 1, p1930-1942, 13p
Czasopismo naukowe

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies