Autor: "van Ingen Schenau, Koen" - OpacWWW

Skocz do pozycji: 1 1.

Tytuł :: Assessment of variability and defectivity by high-throughput e-beam metrology for prediction of patterning defect probabilities.
Autorzy :: Wang, Fuming
Hunsche, Stefan
Anunciado, Roy
Corradi, Antonio
Hung Yu Tien
Tang, Peng
Junwei Wei
Yongjun Wang
Wei Fang
Wong, Patrick
van Oosten, Anton
van Ingen Schenau, Koen
Slachter, Bram; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; 2018, Vol. 10585, p1-8, 8p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 2 2.

Tytuł :: EUV imaging performance: moving towards production.
Autorzy :: van Setten, Eelco
Lok, Sjoerd
van Dijk, Joep
Kaya, Cemil
van Ingen Schenau, Koen
Feenstra, Kees
Meiling, Hans
Wagner, Christian; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2009 Part 3, Issue 1, p74700G-74700G-12, 12p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 3 3.

Tytuł :: Feasibility study of the approach to flare, shadowing, optical and process corrections for EUVL OPC.
Autorzy :: Nikolsky, Peter
Davydova, Natalia
van Ingen Schenau, Koen
van Adrichem, Paul
Hendrickx, Eric
Lorusso, Gian
Jiang, Jiong
Liu, Wei
Liu, Huayu; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2009 Part 3, Issue 1, p74882N-74882N-9, 9p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 4 4.

Tytuł :: Imaging budgets for EUV optics: ready for 22-nm node and beyond.
Autorzy :: Bienert, Marc
Göhnemeier, Aksel
Natt, Oliver
Lowisch, Martin
Gräupner, Paul
Heil, Tilmann
Garreis, Reiner
van Ingen Schenau, Koen
Hansen, Steve; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2009 Part 2, Issue 1, p72711B-72711B-12, 12p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 5 5.

Tytuł :: Correlation of EUV resist performance metrics in micro-exposure and full-field EUV projection tools.
Autorzy :: Wallow, Thomas I.
Pierson, Bill
Mizuno, Hiroyuki
Fumar-Pici, Anita
Petrillo, Karen
Anderson, Chris N.
Naulleau, Patrick P.
Hansen, Steven G.
Deng, Yunfei
van Ingen Schenau, Koen
Koay, Chiew-Seng
Ohara, Linda
Han, Sang-In
Watso, Robert
Huli, Lior
Burkhardt, Martin
Wood, Obert
Mallmann, Joerg
Kessels, Bart
Routh, Robert; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2009 Part 2, Issue 1, p72733T-72733T-11, 11p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 6 6.

Tytuł :: EUV simulation extension study for mask shadowing effect and its correction.
Autorzy :: Kang, Hoyoung
Hansen, Steve
van Schoot, Jan
van Ingen Schenau, Koen; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2008, Issue 1, p69213I-69213I-11, 11p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 7 7.

Tytuł :: Photoresist induced contrast loss and its impact on EUV imaging extendibility.
Autorzy :: van Ingen Schenau, Koen
Hansen, Steve
Pierson, Bill
van Schoot, Jan; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2008, Issue 1, p692314-692314-12, 12p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 8 8.

Tytuł :: The lithography technology for the 32 nm HP and beyond.
Autorzy :: Dusa, Mircea
Arnold, Bill
Finders, Jo
Meiling, Hans
van Ingen Schenau, Koen
Chen, Alek C.; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2008, Issue 1, p702810-702810-11, 11p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 9 9.

Tytuł :: Pitch doubling through dual-patterning lithography challenges in integration and litho budgets.
Autorzy :: Dusa, Mircea
Quaedackers, John
Larsen, Olaf F. A.
Meessen, Jeroen
van der Heijden, Eddy
Dicker, Gerald
Wismans, Onno
de Haas, Paul
van Ingen Schenau, Koen
Finders, Jo
Vleeming, Bert
Storms, Geert
Jaenen, Patrick
Cheng, Shaunee
Maenhoudt, Mireille; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2007 Part 2, Issue 1, p65200G-65200G-10, 10p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 10 10.

Tytuł :: The random contact hole solutions for future technology nodes.
Autorzy :: Chen, Alek
Hansen, Steve
Moers, Marco
Shieh, Jason
Engelen, Andre
van Ingen Schenau, Koen
Tseng, Shih-en; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2007 Part 2, Issue 1, p65201B-65201B-12, 12p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 11 11.

Tytuł :: The contact hole solutions for future logic technology nodes.
Autorzy :: Chen, Alek
Hansen, Steve
Moers, Marco
Shieh, Jason
Engelen, Andre
van Ingen Schenau, Koen
Tseng, Shih-en; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2007 Part 2, Issue 1, p68271O-68271O-12, 12p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 12 12.

Tytuł :: Enabling the 45nm node by hyper-NA polarized lithography.
Autorzy :: de Boeij, Wim
Swinkels, Geert
Le Masson, Nicolas
Koolen, Armand
van Greevenbroek, Henk
Klaassen, Michel
van de Kerkhof, Mark
van Ingen Schenau, Koen
de Winter, Laurens
Wehrens, Martijn
Hansen, Steve
Wagner, Christian; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2006 Part 2, Issue 1, p61540B-61540B-11, 11p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 13 13.

Tytuł :: Spot sensor enabled reticle uniformity measurements for 65nm CDU analysis with scatterometry.
Autorzy :: Janssen, Maurice
van Ingen Schenau, Koen
van der Laan, Hans; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2006 Part 2, Issue 1, p62810F-62810F-8, 8p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 14 14.

Tytuł :: Scatterometry based 65nm node CDU analysis and prediction using novel reticle measurement technique.
Autorzy :: van Ingen Schenau, Koen
Vanoppen, Peter
van der Laan, Hans
Kiers, Ton
Janssen, Maurice; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2005, Issue 1, p1312-1322, 11p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 15 15.

Tytuł :: New advanced BARC materials for ultra-high NA applications.
Autorzy :: Claypool, James B.
Weimer, Marc
Krishnamurthy, Vandana
Gehoel, Wendy
van Ingen Schenau, Koen; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2005, Issue 1, p679-689, 11p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 16 16.

Tytuł :: Imaging enhancements by polarized illumination: theory and experimental verification.
Autorzy :: Kohler, Carsten
de Boeij, Wim
van Ingen-Schenau, Koen
van de Kerkhof, Mark
de Klerk, Jos
Kok, Haico
Swinkels, Geert
Finders, Jo
Mulkens, Jan
Fiolka, Damian
Heil, Tilmann; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2005, Issue 1, p734-750, 17p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 17 17.

Tytuł :: System qualification and optimization for imaging performance on the 0.80-NA 248-nm step-and-scan systems.
Autorzy :: van Ingen Schenau, Koen
Bakker, Hans
Zellenrath, Mark
Moerman, Richard
Linders, Jeroen
Rohe, Thomas
Emer, Wolfgang; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2002, Issue 1, p637-651, 15p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 18 18.

Tytuł :: Process optimization for sub-100-nm gate patterns using phase edge lithography.
Autorzy :: van Ingen Schenau, Koen
Vleeming, Bert
Gehoel-van Ansem, Wendy F.
Wong, Patrick
Vandenberghe, Geert; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2001, Issue 1, p200-210, 11p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 19 19.

Tytuł :: Status of ArF lithography for the 130-nm technology node.
Autorzy :: Ronse, Kurt G.
Vandenberghe, Geert
Jaenen, Patrick
Delvaux, Christie
Vangoidsenhoven, Diziana
Van Roey, Frieda
Pollers, Ingrid
Maenhoudt, Mireille
Goethals, Anne-Marie
Pollentier, Ivan K.
Vleeming, Bert
van Ingen Schenau, Koen
Heskamp, Barbra
Davies, Guy
Finders, Jo
Niroomand, Ardavan; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2000 Part 2, Issue 1, p410-422, 13p
: Konferencja

Szczegóły

Skocz do pozycji: 20 20.

Tytuł :: Low-k1 imaging: how low can we go?
Autorzy :: Finders, Jo
Eurlings, Mark
Van Ingen Schenau, Koen
Dusa, Mircea V.
Jenkins, Peter; Pokaż więcej
Źródło :: Proceedings of SPIE; Nov2000, Issue 1, p1-15, 15p
: Konferencja

Szczegóły

Informacja

Prolib Integro - strona głównaUniwersytet Ekonomiczny we Wrocławiu

Wyszukujesz frazę ""van Ingen Schenau, Koen"" wg kryterium: Autor

Źródło danych

Ogranicz do:

Ogranicz do bazy

Typ dokumentu

Język